ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Чувствительность полимеров к ионизирующему излучению из "Светочувствительные полимерные материалы" У большинства полимерных материалов под действием ионизирующего излучения структурирование и деструкция протекают одновременно. Однако на основании экспериментальных данных полимерные материалы можно разделить на две группы по типу преобладающего процесса полимеры деструктирующие и полимеры структурирующиеся. [c.224] Чувствительность полимеров к ионизирующему излучению зависит от ряда факторов, причем некоторые из них показывают, какой из процессов преобладает. Химический состав является основным параметром, который, как будет показано в дальнейшем, может в значительной степени определять не только чувствительность к ионизирующему излучению, но и соотношение процессов структурирования и деструкции в полимерах после облучения. [c.225] О — сополимеры — смеси гомополимеров. [c.225] Изменением химического состава можно перевести структурирующийся полимер в деструктирующий. Влияние химического состава хорошо видно на сополимерах, соответствующие которым гомополимеры значительно различаются по свойствам. [c.225] Зависимость О (X) (а) и 0(S)(ff) от состава сополимера -хлоракрилонитрила с ММА. [c.226] Путем изменения состава сополимеров а-хлоракрилонитрила с метилметакрилатом можно перейти от преимущественно структурирующегося полимера (поли-а-хлоракрилонитрила) к преимущественно деструктирующему (ПММА) (рис. У П.О) [26]. [c.226] Хотя оба процесса протекают одновременно, по отношению Х= 0 8)/0 Х) можно оценить, преобладает ли структурирование (Х 4) или деструкция (х 4). [c.226] Паркинсон и Сиерс [28] исследовали изменения ненасыщен-ности и ее характера у полибутадиена под влиянием ионизирующего излучения. Во время облучения происходит транс цис изомеризация, а затем исчезновение двойных связей. Исчезновение двойных связей в транс-ненасыщенных и винильных группах можно описать уравнением 1-го порядка. Так, для сополимера бутадиена со стиролом (28,7 % стирола, 7 % цис-, 73 % транс-, 20 % винильных звеньев) 0(Х)вняил = —6,1. [c.227] Томсон [29] исследовал с помощью ЯМР-спектроскопии изме-йения в микроструктуре ПММА после облучения и установил, что с возрастанием дозы излучения доля изотактических участков цепи уменьшается, а синдио- и гетеротактических увеличивается (рис. VII. 11). Изменения в микроструктуре объясняются рекомбинацией фрагментов после деструкции. [c.227] Влияние морфологии кристаллизующихся полимеров на их ст руктурирование и деструкцию под действием ионизирующего излучения исследовали в работе (30]. Во всех случаях наблюдали разницу в скорости структурирования и деструкции макромолекул кристаллической и аморфной фаз. [c.228] Вернуться к основной статье