ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Ректификация кадмия и цинка из "Ректификация разбавленных растворов" В качестве сопутствующих примесей кадмия и цинка следует выделить свинец, ртуть, сурьму, олово, мышьяк, медь. Кроме того, как правило, следы кадмия присутствуют в цинке и наоборот. Поведение вышеназванных примесей в цинке (кадмии) значительно отличается от законов идеальных растворов, что в ряде случаев приводит к расслаиванию и большим величинам коэффициентов активности. [c.158] Оценивая особенности процесса очистки кадмия и цинка с позиций массообмена, необходимо отметить аномально высокое поверхностное натяжение этих веществ. При нормальной температуре кипения поверхностное натяжение жидкого кадмия составляет 600,8 дин/см (ири 770 °С), для цинка а = 722,5 дин/см (при 913 °С). По этой причине при ректификации кадмия и цинка активная поверхность контакта фаз в насадочных колоннах значительно меньше, чем при ректификации органических веществ, и эффективность очистки в аппаратах данного тина относительно невысока. Так, при очистке кадмия от цинка высота единицы переноса Ло у в колонне с насадкой из колец Фенске 5 X 0,2 мм составила 0,2 м. Только при повышении нагрузки по жидкости и пару и переходе в режим инверсии фаз наблюдалось увеличение эффективности до = = 0,13 м [8]. [c.158] Эффективность тарельчатых аппаратов в подобных условиях также довольно низкая. При ректификационной очистке цинка средний к. п. д. колонны составил около 30% [19]. Одной из причин низкой эффективности контактных устройств в подобных условиях является плохая смачиваемость поверхности насадки (тарелки) ректифицируемой жидкостью. [c.158] В качестве материала для изготовления ректификационной аппаратуры, применяемой в технологии очистки цинка и кадмия, может быть использован графит и кварц [19—22, с. 9]. Однако после завер шения процесса очистки весь оставшийся материал необходимо выводить из аппарата. [c.159] Если в колонне оставлять металл, то после его затвердевания кварцевые тарелкп и куб растрескиваются. [c.159] Авторы работы [21] на графитовой ректификационной колонне с 26-ю полочными тарелками получили кадмий с содержанием примесей 8п, ЗЬ, РЬ, В1, А1, , Оа менее 1-10 . [c.160] При вакуумной ректификации цинка марок ЦО и ЦВ-4 в графитовой колонне с 15-ю полочными тарелками был получен металл высокой степени чистоты [19]. После окончания опыта весь цинк оказался равномерно распределенным по тарелкам колонны, в результате чего удалось проследить распределение примесей по тарелкам колонны. Концентрации примесей в металле, собранном с каждой тарелки, приведены в табл. У-4. [c.160] Приведенные выше результаты послужили основой для успешного внедрения в промышленность ректификационного метода очистки кадмия и цинка [25]. Успешно был применен данный процесс и в США [26, с. 45]. О работе промышленной установки ректификации кадмия и цинка указано также в работе [18]. [c.161] Вернуться к основной статье