ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Фоторезисты на основе азидополимеров из "Светочувствительные полимерные материалы" Использование азидополимеров в светочувствительных композициях представляется перспективным благодаря гомогенности светочувствительных слоев, получаемых на их основе. Кроме того, наличие азидогрупп в самом полимере облегчает его структурирование при облучении. Композиции резистов состоят, кроме полимера, из растворителя, иногда из сенсибилизатора и красителя возможны добавки других инертных полимеров. Светопоглощение применяемых азидополимеров лежит в основном в области 250— 300 нм, В настоящее время такие композиции могли бы найти применение как материалы для коротковолнового УФ-света. [c.155] Светочувствительность фоторезистного материала возрастает как с увеличением ММ полимера, так и с ростом содержания в нем азидогрупп. [c.156] Инертным наполнителем служит НС, красителем, — например Виктория синий. Эти типы азидополимеров в слоях толщиной Д( 25 мкм предназначены прежде всего для создания печатных форл в полиграфии на алюминиевой пластине или медной фольге. Воз можно получение как штрихового, так и полутонового оригинал формы. Следует отметить, что надежность воспроизведения полу тонового оригинала является довольно редкой особенностью длз печатных форм, создаваемых на основе фоторезистов. [c.158] Фоторезисты используются для приготовления предварительно очувствленных офсетных печатных плат на различных подложках— алюминиевой фольге, цинке, Помимо собственно азидополимера светочувствительная композиция может дополнительно содержать ПММ, НС. [c.159] Использование в качестве структурных единиц циануразидов обеспечивает еще большую по сравнению с арилазидами стабильность полимерного состава как при получении его, так и в процессе длительного хранения светочувствительной композиции. Эти композиции рекомендуются для создания масок на ЗЮг/З или 51, при этом их экспонируют коротковолновым УФ-светом, травят плавиковой кислотой, достигая разрешение 0,5 мкм. Полимер используют на медной подложке, травят по рельефу раствором хлорида железа (III). Обычно для получения фоторельефа с помощью азидсодержащих композиций на медной подложке рекомендуется использовать светочувствительный промежуточный слой, например на основе поливинилциннамата, в рассматриваемой разработке удается обойтись без него. [c.159] Все эти полимеры поглощают в области 260—300 нм. Они растворимы в полярных растворителях, а при увеличении числа карбоксильных групп — в воде. Присутствие гидроксильных групп в боковых цепях обусловливает хорощую адгезию таких полимерных слоев к металлическим и стеклянным поверхностям. Рабочая толщина пленки рекомендуется 1 мкм. [c.160] Вернуться к основной статье