ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Другие диклодимеризующиеся полимерные системы из "Светочувствительные полимерные материалы" В литературе многократно обсуждались пути и стадии циклобутанового синтеза реакционные состояния [4—7] взаимодействия в растворах, а также в аморфном и кристаллическом твердом состоянии стереохимия образуюш,ихся продуктов [8—10]. Была изучена зависимость циклообразования между двойной связью синглетного и триплетного возбужденного хромофора и этиленовой связью основного состояния другой молекулы от расстояния между реакционными центрами. Циклодимеризация эффективна, если циннамоильные группы расположены параллельно и расстояние между ними не более 0,43 нм [4, 11, 12]. [c.161] Образование эксимеров характерно для полиэфиров I, II, III и незначительно для IV и V [4], однако значения квантовых выходов их фотодимеризации не сильно различаются. [c.162] Длительное облучение циклодимеризованных полимеров приводит к их деструкции [14], увеличивая растворимость облученных участков по сравнению с неэкспонированными и позволяя таким образом изменить тип фоторезиста на позитивный. [c.162] Благодаря циннамоильной группе поливинилциннамат поглощает в области 270—320 нм (Хмакс = 275 нм) с длинноволновой границей 330 нм. Желательное в условиях практического применения смещение поглощения в область 360—440 и даже 500 нм, например в составах для проекционной печати, достигается введением сенсибилизаторов. [c.162] Так как рассчитанное значение Eg при условии квантового выхода сшивания, равного примерно 2 и чисто радикального пути структурирования составляет только 10 Дж/см [22], можно считать, что если радикальный процесс в поливинилциннаматах и имеет место, то его эффективность очень невелика. [c.163] В СССР и других странах выпускаются серии фоторезистов ФН-5ТК, KPR, KPR-II, П1, IV, KPL, Way oat I , FPR, TPR, OPR, S R и проч., являющихся 10—20 %-ными растворами в органических растворителях поливинилциннаматов с ММ 100000— 200000, включающими сенсибилизатор. Другие добавки, как правило, не вводятся. В самом полимере допускается присутствие ацетатных групп, степень этерификации спирта 60—100 %. Негативные поливинилциннаматные фоторезисты очень стойки в агрессивных средах, обладают адгезией практически к любым подложкам, отличаются малой чувствительностью к уровню освещенности при экспонировании. Их разрешающая способность после травления в пределах 200—600 линий мм [23]. [c.163] Такие полимеры позволяют при сохранении надежности повысить адгезию составов к подложкам и получить предварительно очувствленные офсетные печатные формы. Они отличаются механической прочностью и стойкостью к истиранию, тираж составляет от 200 тыс. до 1 млн. оттисков хорошего качества. [c.164] ина слоя может составлять до 10 мкм. После проявления рельефа толуолом слой выдерживает травление 40 %-ным раствором РеС1з при 40 °С в течение 30 с, при этом протравливается слой электролитической меди толщиной 50 мкм до подложки из ПЭТФ. [c.165] Полученный рельеф обладает высокой химической и термической стойкостью и хорошими электроизоляционными свойствами. [c.165] Полимеры растворяют в кетонах, например 4-этокси-4-метил-2-пентаноне. Это дает возможность получать однородные тонкие пленки на подложке. При нанесении этого состава на хром после литографии были получены элементы размером 1—2 мкм при точной передаче абриса изображения и хорошей воспроизводимости ширины линии. [c.166] США 4063953 приводится состав, отвечающий соотношению полимеров IV V = 55 45. В такой состав можно вводить пигменты, стабилизаторы, пластификаторы. [c.166] Изменяя поверхностное натяжение проявителя, эти добавки помогают выявлять мелкие детали фоторельефа, повышая таким образом разрешающую способность слоя. Для облегчения визуального контроля в проявитель можно вводить краситель, например Жирорастворимый красный (С. I. 152038). [c.167] Во франц. пат. 2442862 рекомендуется использовать в качестве верхнего слоя по аналогичному подслою 20 %-ные растворы промышленных марок фоторезистов KPR или TPR и таким образом, получать литографские пластины повышенного срока годности и прочности. [c.168] Вернуться к основной статье