ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Устранение ошибок, возникающих вследствие попадания постороннего излучения на фотоэлемент из "Методы анализа по фотометрии пламени" При анализе растворов проб эмиссионным методом возможно возникновение ошибок вследствие попадания излучения содержащихся в пробе посторонних веществ на фотоэлемент, в результате чего фототок увеличивается. Причиной ошибок является в одних случаях излучение постороннего элемента в той части спектра, где находится аналитическая линия искомого элемента, в других — недостаточная селективность используемых в фотометрах светофильтров и пропускание ими вследствие этого областей спектра, соседних с аналитической линией. Даже в спектрофотометрах всегда приходится считаться с наличием рассеянного оптикой света. Особенно заметны такие помехи при определении следов какого-либо элемента в присутствии большого количества постороннего элемента при низких факторах специфичности. [c.187] Приводимые здесь приемы работы могут использоваться не только для устранения помех, связанных с попаданием постороннего света на фотоэлемент, но в некоторых случаях и для компенсации ошибок, вызываемых неодинаковым составом растворов и влиянием составных частей пробы на возбуждение определяемого элемента в пламени, а также на скорость его введения в пламя при распылении. [c.188] Вернуться к основной статье