Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English
Соответственно установленная мош ность должна быть больше в 1,6 Ч- 2,5 раза в зависимости от уровня источника электропитания и потерь в разрядной камере плазмотрона.

ПОИСК





Расчет мощности высокочастотного источника электропитания для получения потока высокочастотной индукционной (U F)-плазмы

из "Плазменные и высокочастотные процессы получения и обработки материалов в ядерном топливном цикле - настоящее и будущее"

Соответственно установленная мош ность должна быть больше в 1,6 Ч- 2,5 раза в зависимости от уровня источника электропитания и потерь в разрядной камере плазмотрона. [c.529]


Вернуться к основной статье


© 2025 chem21.info Реклама на сайте