ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Азидсодержащие светочувствительные системы из "Фотохимические процессы в слоях" Если исходить из самых общих соображений, то значительно -большую кислотостойкость должны иметь рельефные слои, при образовании которых резко увеличивается молекулярная масса полимера или в нем появляется пространственная сетка за счет связей, обладающих большей химической стойкостью. Именно к таким композициям и относятся все фоторезисты второй группы, т. е. негативные. Последние получают все большее распространение благодаря целому ряду преимуществ, в частности при операции совмещения шаблонов многослойного печатного монтажа. [c.104] В качестве полимерной основы для целого ряда негативных фоторезистов используются разнообразные каучуки [41]. Однако циклодимеризация в них за счет этиленовых связей, которая могла бы осуществляться с помощью вводимых сенсибилизаторов, как и у поливинилциннаматов, не приводит к практически ценным резистивным рельефам. Поэтому их фотоструктурирование происходит в результате реакций с фоточувствительными бифункциональными мономерами, дающими многочисленные поперечные связи в полимере после экспонирования. [c.104] Генерирование нитренов обязательно сопровождается выделением молекулярного азота, который в газонепроницаемом, способном к кристаллизации полимерном материале после термообработки образует относительно малоподвижное пузырьковое (везикулярное) изображение. Достигаемая оптическая плотность превышает создаваемую за счет солей диазония. В качестве источников азота запатентованы азиды и бисазиды на основе разнообразных гетероциклических систем [45]. Везикулярная композиция может служить для копирования кинофильмов, микрофильмов и размножения технической документации. [c.105] В связи с широким применением фотогенерируемых нитренов в практически важных светочувствительных композициях многократно обсуждался вопрос о путях их реагирования в полимерной матрице. [c.105] Вернуться к основной статье