Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English
Действительно, при экспонировании на окисленном алюминии слоев этих полимеров наблюдался редокс-процесс и образовывались низкомолекулярные фрагменты их дальнейший распад ускоряется нагреванием до 170 °С, при этом проявление рельефа лучше всего достигается 20 %-ным раствором КОН в изопропиловом спирте при комнатной или повышенной до 70°С температуре. Получают позитивный рельеф, используемый для создания печатной формы в полиграфии. Из-за образования альдегидных функций при распаде полимера экспонированный слой дает реакцию серебряного зеркала с реактивом Толленса, образуется позитивное металлическое изображение, которое, в частности, может быть катализатором омеднения из восстановительной ванны.

ПОИСК





Другие превращения

из "Светочувствительные полимерные материалы "

Действительно, при экспонировании на окисленном алюминии слоев этих полимеров наблюдался редокс-процесс и образовывались низкомолекулярные фрагменты их дальнейший распад ускоряется нагреванием до 170 °С, при этом проявление рельефа лучше всего достигается 20 %-ным раствором КОН в изопропиловом спирте при комнатной или повышенной до 70°С температуре. Получают позитивный рельеф, используемый для создания печатной формы в полиграфии. Из-за образования альдегидных функций при распаде полимера экспонированный слой дает реакцию серебряного зеркала с реактивом Толленса, образуется позитивное металлическое изображение, которое, в частности, может быть катализатором омеднения из восстановительной ванны. [c.102]
Эта область спектра пропускается полиэтилентерефталатной пленкой — обычным материалом для изготовления пленочных резистов. Как основа для создания полимерной части слоя применяются различные акрилатные мономеры и олигомеры. Для инициирования фотополимеризации применяется большой набор разнообразных веществ, в частности карбонильные соединения, например 2,7-ди-грег-бутилфенантренхинон. [c.104]
Поскольку нитрозосоединения образуются при фоторедокс-про-цессе рассматриваемых в этой главе о-нитросоединений ароматического и гетероароматического рядов, очевидна возможность их использования в аналогичной разработке. В системе Небе образование мономера нитрозосоединения из димера термически обратимо, поэтому второе экспонирование следует проводить непосредственно после первого выбирают такие нитрозосоединения, которые медленнее димеризуются. Образование же нитрозосоединений при фотолизе о-нитросоединений необратимо, что дает преимущества перед системой Небе. [c.104]
Для фотополимеризации ненасыщенных соединений требуется добавка инициатора, например фоторедокс-системы с красителем. Если в такую композицию вводить производные 5-нитро-о-толуило-вой кислоты, то в местах, экспонированных УФ-светом, полимеризация подавляется, по-видимому, в результате образования нитрозопроизводных. Видимый свет отверждает остальные участки слоя [пат. США 3556794]. [c.104]


Вернуться к основной статье


© 2024 chem21.info Реклама на сайте