ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Олеофильные арилазиды в фоторезистах из "Светочувствительные полимерные материалы " Промышленность выпускает ряд составов на основе диазида I и полиметилизопропенилкетона. Их проявляют смесью циклогек-сана и 2-нитропропана. Они обеспечивают высокое разрешение и термическую стойкость рельефа, который выдерживает плазменное травление, например F4—О2 (96 4). Разрешение и светочувствительность таких составов (например, ONNR-20) аналогичны параметрам, получаемым для позитивных фоторезистов [15]. [c.142] Они поглощают в области 280—360 нм. [c.143] Эти соединения препятствуют появлению окраски при хранении композиций, содержащих лейкооснований красителя. [c.144] В композиции, чувствительные к излучению с длинами волн до 600 нм, рекомендуется [яп. заявка 57—59954] вводить 1,5- или 1,8-бис(л-азидобензоилокси) антрахиноны они содержат циклокаучук или стирол-бутадиеновый каучук, растворителем служит смесь толуола, хлорбензола, тетрагидрофурана (50 30 20). Такие фоторезисты можно использовать в проекционной фотолитографии. [c.145] Широко используемый путь улучшения качества азидсодержащих фоторезистивных композиций — введение в слои различных мономерных добавок. [c.148] Уменьшая светорассеяние в слое, эти добавки способствуют более полному структурированию экспонируемых участков [заявка Японии 55—34931]. Обычно при проявлении азидсодержащих фоторезистов уменьшение исходной толщины слоя может составлять до 50%. В результате введения добавок замещенных азометинов толщина слоя уменьшается не более, чем на 10%, что в свою очередь улучшает кислотостойкость рельефа при травлении. [c.149] Вернуться к основной статье