ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Пленкообразующие системы на основе мономеров из "Химия и технология плёнкообразующих веществ" Формирование покрытий из систем на основе мономеров (100%-ные мономерные системы) обусловлено химическими процессами полимеризации исходных непредельных мономеров. [c.95] Для реализации процесса отверждения таких систем необходимы мономеры, обладающие низкой упругостью паров и высокой реакционной способностью, обеспечивающей быстрое образование полимера с достаточно высокой степенью полимеризации. Для этих систем перспективны способы инциирования под действием излучения высокой энергии, в том числе быстрых электронов и УФ-излучения, которые вызывают отверждение за секунды или доли секунды. При низких температурах процесса образуются пленки с более высокой термостойкостью и лучшими диэлектрическими свойствами за счет уменьщения вероятности передачи цепи и образования разветвлений. Кроме того, при таком режиме улучшаются также условия труда, поскольку резко снижается летучесть мономеров в процессе формирования покрытий. [c.95] Вернуться к основной статье