Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English
В последнее время промышленное значение начинают приобретать новые способы отверждения лаковых композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров отверждение под действием УФ- и радиационного облучения. Для этой цели обычно используют лаковые композиции, отверждение которых не ингибируется кислородом воздуха.

ПОИСК





Ненасыщенные олигоэфиры, отверждаемые УФ- и радиационным облучением

из "Химия и технология плёнкообразующих веществ"

В последнее время промышленное значение начинают приобретать новые способы отверждения лаковых композиций на основе ненасыщенных олигоэфиров отверждение под действием УФ- и радиационного облучения. Для этой цели обычно используют лаковые композиции, отверждение которых не ингибируется кислородом воздуха. [c.124]
Этот метод обеспечивает при низких температурах весьма высокие скорости отверждения (от 20 с до 10 мин), однако он применим лишь в случае отверждения пленок малой толщины. [c.124]
Радиационное отверлсдение обеспечивает отверждение ненасыщенных олигоэфиров в течение нескольких секунд при комнатной температуре без специальных добавок. Несмотря на большие капитальные затраты, этот способ обеспечивает высокую экономичность процесса при большом объеме производства в связи с малым потреблением энергии и очень высокой производительностью. Существенным преимуществом радиационного отверждения перед отверждением УФ-лучами является возможность переработки пигментированных композиций. Покрытия, полученные отверждением радиацией, отличаются повышенной твердостью и стойкостью к действию растворителей. Следует отметить, что этим способом иногда отверждают и парафиновые лаки, однако процесс при этом проводят в инертной атмосфере. [c.125]


Вернуться к основной статье


© 2025 chem21.info Реклама на сайте