Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English
Тонкая очистка газов от двуокиси углерода растворами ЫаОН является одним из самых старых и распространенных процессов. В азотной промышленности он применяется в качестве последней ступени в сочетании с водной очисткой, очисткой растворами МЭА и др. Щелочная очистка применяется также для удаления двуокиси углерода при разделении воздуха. В настоящее время абсорбция щелочными растворами вытесняется другими более дешевыми методами тонкой очистки.

ПОИСК





Очистка растворами щелочи

из "Очистка технических газов"

Тонкая очистка газов от двуокиси углерода растворами ЫаОН является одним из самых старых и распространенных процессов. В азотной промышленности он применяется в качестве последней ступени в сочетании с водной очисткой, очисткой растворами МЭА и др. Щелочная очистка применяется также для удаления двуокиси углерода при разделении воздуха. В настоящее время абсорбция щелочными растворами вытесняется другими более дешевыми методами тонкой очистки. [c.169]
Парциальное давление СО-з над раствором в процессе поглощения равно нулю лишь после полного использования НаОН давление СО2 начинает возрастать. При этом МазСОд реагирует с двуокисью углерода с образованием бикарбоната. [c.169]
Кинетике этого процесса посвящено много работ часть из них приведена в обзорной статье Данквертца и Шармы . С увеличением концентрации щелочи до критической коэффициент скорости абсорбции вначале быстро увеличивается, а затем начинает постепенно уменьшаться. Критическая концентрация МаОН равна 1,5 н. При концентрации щелочи выше 0,5 моль1л соблюдается условие, по которому скорость абсорбции определяется уравнением (1У-54) для сравнительно необратимой реакции псевдопервого порядка. Сопротивление жидкой пленки при этом примерно на порядок выше сопротивления газовой пленки и скорость газа практически не влияет на скорость абсорбции. Повышение же скорости абсорбции с возрастанием скорости жидкости авторы объясняют увеличением поверхности контакта. [c.169]
Указывается также , что влияние концентрации щелочи на скорость абсорбции СО2 во многих случаях объясняется увеличением ионной силы и уменьшением физической растворимости СО2 в водных растворах щелочи при возрастании концентрации щелочи. Фи-, зическая растворимость двуокиси углерода в растворах КОН выше, поэтому скорость абсорбции СОо в этих растворах больше, чем в растворах ЫаОН. [c.169]
Увеличение концентрации соды в растворе снижает скорость аб-сорбции (рис. 1У-74). [c.170]
Если концентрация щелочи составляет 1,5 п., увеличение среднего парциального давления СОа ДО 0,06 ат приводит к уменьшению коэффициента массопередачи дальнейшее увеличение парциального давления уже не влияет на коэффициент массопередачи. При меньшей концентрации НаОН увеличение содержания СОа в газе снижает коэффициент массопередачи и при более высоких давлениях. Этот факт также подтверждает, что все сопротивление процесса абсорбции при больших концентрациях СОа сосредоточено в жидкой фазе. [c.170]
Обычно при абсорбции СОа щелочью объемный коэффициент массопередачи колеблется в пределах 20—50 кмоль/(м ч бар). [c.170]
Для щелочной абсорбции применяют в большинстве случаев на-садочные скрубберы различной конструкции. [c.170]
Технологическая схема щелочной очистки приведена на рис. 1У-75. Газ проходит последовательно два скруббера, через которые многократно циркулирует щелочной раствор. Процесс щелочной очистки является одним из немногих, где возможна тонкая очистка, несмотря на циркуляцию отработанного абсорбента в верхнюю часть абсорбера и лишь периодическую регенерацию поглотителя. Такая организация процесса возможна потому, что равновесное давление СОа над раствором равно нулю. Начальная концентрация подаваемого раствора щелочи 10%, конечная — около 1,5%. В абсорбере первой ступени циркулирует карбонизованная щелочь, поступающая частично из аппарата второй ступени. [c.171]
Процесс проходит при 90—95° С и перемешивании, выход щелочи около 95%. [c.171]
Схема процесса регенерации громоздка, она включает в себя баки для хранения отработанного раствора, бункер и дробилку извести, питатель и шнек для подачи извести, барабан для гашения извести, реактор, насос, отстойник, вакуум-фильтр, вакуум-насос и другое оборудование. [c.171]
Щелочная очистка может применяться также для очистки газов от таких примесей, как меркаптаны (см. главу VI). [c.171]


Вернуться к основной статье


© 2025 chem21.info Реклама на сайте