ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Получение тонких пленок из газовой фазы из "Химические методы получения тонких прозрачных пленок" Известно, что многие химические соединения склонны к гидролизу не только в водных растворах, но и при взаимодействии с водяными парами. Метод получения тонких пленок из газовой фазы основан на химических реакциях между легколетучими гидролизующимися соединениями. [c.33] Гидролиз в паровой фазе может быть обратимым и необратимым. Механизм гидролиза веществ в газообразном состоянии зависит от химической природы исходного вещества, его реакционной способности и условий гидролиза. На практике условия гидролиза пленкообразующих соединений в парообразном состоянии подбираются так, чтобы процесс протекал необратимо. При этом одним из конечных продуктов гидролиза должно быть вещество, конденсирующееся из паров в твердом виде на поверхности обрабатываемых изделий. Гидролиз химических соединений в газообразном- состоянии в большинстве случаев происходит при относительно низких температурах. Легко гидролизуются в паровой фазе хлориды, алкоксисоединения различных элементов [22, 99, 155—157], галогенсодержащие, кремнийорганические соединения и частично замещенные алкоксисоединения с разными алкильными и арильными органическими радикалами. Все они могут осаждаться в виде тонких пленок гидроокисей. [c.33] Пленки Si02 часто получают из Si U. Разложение его легко протекает при комнатной температуре и, поэтому, может быть применено для образования пленок на изделиях из стекол, кристаллов и других материалов, не допускающих прогрева до высоких температур. [c.34] Кроме хорошей адгезии они отличаются еще и повышенной плотностью и, поэтому, обладают достаточными защитными качествами. Пленки Si02, образующиеся указанным способом, имеют тот же показатель преломления, что и пленки, получаемые при выщелачивании поверхности обычных силикатных стекол многими водными растворами электролитов (п 1,45). Полученные таким образом пленки SiOa могут быть использованы для уменьшения отражения света от поверхностей оптических деталей из стекла и некоторых других материалов [1, 155]. [c.34] Недостатками метода получения пленок гидролизом летучих соединений в парообразном состоянии является, во-первых, трудность получения однородных по толщине пленок (особенно на изделиях больших размеров) и, во-вторых, слол ность регулирования осаждения пленок заданной толщины. [c.36] Более однородные и прозрачные окисные пленки образуются при помощи так называемого газоструйного метода [155]. [c.36] Газоструйный метод — один из вариантов получения пленок из газовой фазы, отличающийся особой технологией. Схема получения пленок указанным методом представлена на рис. 4. Тщательно очищенные детали помещают на вращающуюся (скорость вращения 60 об1мин) и подогреваемую подставку 3, затем детали нагревают до 250—350° С. В форсунку 5, совершающую возвратно-поступательное движение, подают пары пленкообразующих веществ, сухой и увлажненный воздух. Скорость подачи паров и их расход устанавливаются экспериментально и зависят от природы пленки и ее толщины. Толщину пленки регулируют скоростью отсоса отработанного воздуха, временем действия паров на поверхность деталей и изменением температуры. [c.36] Гидролиз солей протекает при низких температурах, а осажде ние соответствующих окислов осуществляется на поверхностях нагретых до температур, допустимых для различных стекол и кри сталлов. Образующиеся пленки прозрачны, однородны, аморфны прочно закрепляются на поверхности стекла и могут быть полу чены толщиной от нескольких десятков ангстрем до 1,5—2,0 мкм на поверхности изделий различных профилей и конфигураций. [c.36] По оптическим свойствам пленки окислов кремния и титана несколько отличны от пленок, получаемых методом гидролиза паров. Плотность и значения показателей преломления их несколько выше (для пленок 5102 п = 1,45—1,46, для пленок ТЮ2 п = 2,3). [c.37] Газоструйный метод получения аморфных окисных пленок оказался очень удобным при изготовлении пленочных схем радиотехнических деталей [161], а также защитных покрытий для микроминиатюрных изделий. Недостатками этого метода являются сложность аппаратуры, невозможность покрывать крупногабаритные изделия, трудность как регулирования и контроля толщины образующихся пленок, так и получения их толщиной более 2 мкм. [c.37] Вернуться к основной статье