Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English
Поскольку интенсивность фона между максимумами для эталона не равна нулю, в аппаратной функции 1 1ультиплекса, кроме основных максимумов, появляются побочные. Их число и интенсивность зависят от соотношения толщин эталонов и вида инструментального контура эталона меньшей толщины. Для случая, изобрая енного на рис. 6.18, побочные максимумы в 72 раз слабее основных (у2 — контрастность более тонкого эталона).

ПОИСК





Сложный эталон (мультиплекс)

из "Техника и практика спектроскопии"

Поскольку интенсивность фона между максимумами для эталона не равна нулю, в аппаратной функции 1 1ультиплекса, кроме основных максимумов, появляются побочные. Их число и интенсивность зависят от соотношения толщин эталонов и вида инструментального контура эталона меньшей толщины. Для случая, изобрая енного на рис. 6.18, побочные максимумы в 72 раз слабее основных (у2 — контрастность более тонкого эталона). [c.181]
И существенно выше, чем у простых эталонов. [c.181]
Оно быстро падает при увеличении потерь на поглощение в зеркалах. Так, для зеркал с г = 90% и е =5% (т = 5%) пропускание мультиплекса будет всего 6%. Поэтому при работе со сложными эталонами гкелательно применять зеркала с диэлектрическими покрытиями. Для них потери на поглощение существенно меньше, чем для металлических пленок. [c.181]
Помимо обычной юстировки каждого из эталонов при работе с мультиплексом необходимо добиваться кратного отношения их оптических толщин. Точность изготовления распорных колец при этом недостаточна и приходится подгонять оптические толщины, изменяя давление газа в промежутке между зеркалами одного из эталонов. [c.181]


Вернуться к основной статье


© 2024 chem21.info Реклама на сайте