ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Скорость испарения и поток пара в условиях низкого и высокого вакуума из "Основы вакуумной техники" Если в сосуд помещен источник пара, например в виде небольшого кусочка твердого вещества, испаряющегося при его нагревании, то атомы вещества, покидая его поверхность, рано или поздно в результате теплового движения достигают холодных стенок сосуда и конденсируются на них в виде налета. [c.36] В случае низкого вакуума испаряющиеся атомы, сталкиваясь со встречными молекулами газа, частично снова возвращаются на поверхность источника пара. Скорость испарения тем меньше, чем меньше к. [c.36] Молекулярный (т. е. определенно направленный) поток пара неосуществим, так как столкновения испарившихся атомов с молекулами газа полностью уничтожают их определенную начальную ориентировку (рис. 3-4). [c.36] Любой атом пара может сконденсироваться в любом месте стенки сосуда и на любой стороне экрана наличие или отсутствие экрана внутри сосуда практически не сказывается на характере движения молекул, никакой молекулярной тени на-стенке сосуда за экраном не получается. [c.36] В случае высокого вакуума скорость испарения достигает возможного для данной температуры максимума, так как возврат испарившихся атомов (из-за отсутствия столкновений с молекулами газа) невозможен. [c.37] Аналогично световой тени молекулярная тень имеет тем большую резкость, чем меньше размеры источника пара. На принципе молекулярного потока, т. е. испарения вещества в высоком вакууме, основаны способы покрытия поверхностей металлическими и неметаллическими пленками (например, получение пленки поглотителя в баллоне электровакуумного прибора, алюминирование экранов электронно-лучевых трубок, зеркализация отражателей в осветительных приборах и т, п.). [c.37] Вернуться к основной статье