Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

[<< Стр.]    [Стр. >>]

Расположение деталей прибора показано на рис. 248. На тарелку вакуумна-соса устанавливают на алюминиевой подставке 1 покрываемый объект 2, над которым расположен катод 3 из распыляемого металла. Расстояние от катода до объекта 20—40 мм. Разрежение должно быть таким, чтобы ширина полосы так называемого «темного пространства» у катода была равна 20—30 мм. Покрываемая поверхность должна быть очень тщательно очищена. Для улучшения равномерности покрытия Иоффе советует помещать над объектом редкую латунную сетку. Нанесение на стекло тонких слоев металлов путем испарения в вакууме очень подробно описано у ¦Стронга.

[<< Стр.]    [Стр. >>]


[Выходные данные]

ПОИСК





Расположение деталей прибора показано на рис. 248. На тарелку вакуумна-соса устанавливают на алюминиевой подставке 1 покрываемый объект 2, над которым расположен катод 3 из распыляемого металла. Расстояние от катода до объекта 20—40 мм. Разрежение должно быть таким, чтобы ширина полосы так называемого «темного пространства» у катода была равна 20—30 мм. Покрываемая поверхность должна быть очень тщательно очищена. Для улучшения равномерности покрытия Иоффе советует помещать над объектом редкую латунную сетку. Нанесение на стекло тонких слоев металлов путем испарения в вакууме очень подробно описано у ¦Стронга.


© 2025 chem21.info Реклама на сайте