Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

[<< Стр.]    [Стр. >>]

Подобно обычному полому катоду, излучающая плазма и в этом случае образуется при пониженном давлении инертного газа (аргон высокой чистоты при давлении 1,1-1,6 кПа) за счет катодного распыления при напряжении 1-2 кВ и силе тока до 0,2 А. Плоскую поверхность анализируемого образца предварительно полируют. Анод расположен от катода всего на расстоянии 0,2 мм, благодаря чему он фокусирует разряд на поверхности пробы. Катодный слой содержит только пары пробы и атомы газа-носителя и не зафязняется

[<< Стр.]    [Стр. >>]


[Выходные данные]

ПОИСК





Подобно обычному полому катоду, излучающая плазма и в этом случае образуется при пониженном давлении инертного газа (аргон высокой чистоты при давлении 1,1-1,6 кПа) за счет катодного распыления при напряжении 1-2 кВ и силе тока до 0,2 А. Плоскую поверхность анализируемого образца предварительно полируют. Анод расположен от катода всего на расстоянии 0,2 мм, благодаря чему он фокусирует разряд на поверхности пробы. Катодный слой содержит только пары пробы и атомы газа-носителя и не зафязняется


© 2025 chem21.info Реклама на сайте