Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

[<< Стр.]    [Стр. >>]

Итак, распределение фона на фотопластинке зависит от положения линий основы. Область наиболее сильного фона расположена вблизи одно- и двухзарядных масс анализируемого вещества. Ореолы иногда захватывают значительный участок пластинки и перекрывают линии однозарядных ионов примесей, снижая чувствительность их определения. В этих случаях примеси .можно определить по их многозарядным ионам. Чувствительность определения ряда элементов снижается также от наличия фона полос перезарядки. Особенно сильное влияние фона сказывалось в первых моделях масс-спектрометров с искровым ионным источником из-за невысокого вакуума в районе анализатора [48].

[<< Стр.]    [Стр. >>]


[Выходные данные]
[Выходные данные]

ПОИСК





Итак, распределение фона на фотопластинке зависит от положения линий основы. Область наиболее сильного фона расположена вблизи одно- и двухзарядных масс анализируемого вещества. Ореолы иногда захватывают значительный участок пластинки и перекрывают линии однозарядных ионов примесей, снижая чувствительность их определения. В этих случаях примеси .можно определить по их многозарядным ионам. Чувствительность определения ряда элементов снижается также от наличия фона полос перезарядки. Особенно сильное влияние фона сказывалось в первых моделях масс-спектрометров с искровым ионным источником из-за невысокого вакуума в районе анализатора [48].


© 2025 chem21.info Реклама на сайте