Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

[<< Стр.]    [Стр. >>]

Кроме того, при пониженном давлении с помощью электродной или безэлектродной разрядных систем можно легко зажечь плазму внутри реактора и провести его плазмохимическую очистку с использованием более безопасных реагентов по сравнению с CIF3, например C F , SF  и CF . Применение вакуумных систем с ловушками и скрубберами выхлопных газов после насосов также повышает безопасность эксплуатации реакторов ХОГФ пониженного давления по сравнению с реакторами атмосферного давления, но несколько снижает их технологическую производительность из-за необходимости периодической откачки реактора. Для увеличения производительности одинаковые реакторы колпакового типа также могут объединяться в составе многокамерной установки ХОГФ.

[<< Стр.]    [Стр. >>]


[Выходные данные]

ПОИСК





Кроме того, при пониженном давлении с помощью электродной или безэлектродной разрядных систем можно легко зажечь плазму внутри реактора и провести его плазмохимическую очистку с использованием более безопасных реагентов по сравнению с CIF3, например C F , SF и CF . Применение вакуумных систем с ловушками и скрубберами выхлопных газов после насосов также повышает безопасность эксплуатации реакторов ХОГФ пониженного давления по сравнению с реакторами атмосферного давления, но несколько снижает их технологическую производительность из-за необходимости периодической откачки реактора. Для увеличения производительности одинаковые реакторы колпакового типа также могут объединяться в составе многокамерной установки ХОГФ.


© 2025 chem21.info Реклама на сайте