ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Позитивные фоторезисты из "Светочувствительные полимерные материалы " Позитивные фоторезисты можно разделить на две группы, отличающиеся по механизму образования рельефного позитивного изображения. [c.65] Щается в растворяющийся в основаниях гидрофильный продукт (например, карбонивую кислоту), в результате чего в экспонированных участках ингибирование снимается экспонированные и защищенные от света шаблоном участки оказываются резко различающимися по растворимости в основаниях, что позволяет создавать рельеф при проявлении. В качестве пленкообразующего полимера чаще всего применяются новолачные смолы (НС), их растворимость в щелочах в большинстве случаев ингибируют эфирами или амидами 5-сульфокнслоты 2-диазо-1-нафталинона. Поскольку эти композиции наиболее привлекательны для практики фотолитографии, их получению, свойствам и применению посвящено наибольшее число работ. Среди других вводимых в композиции позитивных резитов и растворимых в основаниях полимеров необходимо отметить гидроксиалкилцеллюлозу, сополимеры акриловой кислоты, полкамидоккслоты (см- гл. VI) и др. [c.66] Другая группа позитивных резистов включает материалы, в пленкообразующем полимере которых в результате ряда фотохимических, а затем термических стадий или разрушается основной скелет, или за счет превращений заместителей в цепи полимера появляются кислотные функции. В обоих случаях резко повышается растворимость экспонированных участков по сравнению с нефотолизованными, что и приводит при проявлении к позитивному рельефу. [c.66] Вернуться к основной статье