Трифенилвисмут фотолиз

Из табл. 16.1 видно также, что фенильные радикалы, полученные из перекиси бензоила, нитрозоацетанилида или фотолизом трифенилвисмута, дают приблизительно одно и то же отношение скоростей при фенилировании [c.246]

Еще в 1967 г. предложено использовать различные ониевые соли, в том числе диарилиодония и арилдиазония, для фотоотверждения полимеров [пат. США 3567453] в качестве противоиона вводился тетрафенилборат. Был рекомендован также больщой набор красителей-сенсибилизаторов разных классов. Проведена полимеризация под действием света эпоксидов при введении в них йодоформа и трифенилвисмута [пат. США 3977874]. Мономеры, полимеризу-ющиеся по ионному механизму, отверждают путем фотолиза, а затем термолиза в присутствии галогенорганических соединений. Вероятно, первично образующийся радикал Hal- отрывает от вещества среды Н-, и HHal катализирует ионную полимеризацию [пат. США 3515552]. [c.126]

Фотолиз нентафенилсурьмы в бензоле рассмотрен в работе 1591, трифепил-висмута — в ряде работ [60 — 62]. Замечено, что зеркало висмута образуется при фотооблучении трифенилвисмута в отсутствие воздуха [60]. Фотолиз трифепилвисмута в бензоле, а также и его термораспад приводят к образованию дифепила и висмута [61]. Кислород воздуха существенно ускоряет процесс распада трифенилвисмута, но не оказывает влияния на состав продуктов. [c.377]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология