Строение диффузного двойного слоя при отсутствии специфической адсорбции

СТРОЕНИЕ ДИФФУЗНОГО ДВОЙНОГО СЛОЯ ПРИ ОТСУТСТВИИ СПЕЦИФИЧЕСКОЙ АДСОРБЦИИ [c.41]

Исследование строения диффузного двойного слоя в отсутствие специфической адсорбции 96 [c.167]

Строение двойного электрического слоя в отсутствие специфической адсорбции. Под строением двойного слоя понимают распределение зарядов в его ионной обкладке. Упрощенно ионную обкладку можно условно разделить на две части 1) плотную, или гельмголь-цевскую, образованную ионами, практически вплотную подошедшими к металлу 2) диффузную, созданную ионами, находящимися на расстояниях от металла, превышающих радиус сольватированного иона (рис. 171, /). Толщина плотной части.порядка 10 см, диффузной — 10 —10 см. Согласно закону электронейтральности [c.473]

Справочник химика 21