Покрывающие слои нестехиометрические

Вторичная пассивация обусловлена образованием на поверхности нестехиометрических окислов ХУ Огдз, W02,88, W02,9, которые являются промежуточными соединениями при окислении Ог до УОз [9]. Начиная с потенциала 0,8 В, начинается интенсивный рост слоя, состоящего из WOз, происходящего в соответствии с основными закономерностями анодирования. При контакте карбида ШС с раствором На504 без наложения внешнего поляризующего тока его поверхность покрывается тонкой пленкой желтого цвета, характерного для УОз. [c.65]

Справочник химика 21