Пленки тонкие свободные

Методы исследования устойчивости жидких плёнок носят в настоящее время лишь полуколичественный характер. Наиболее распространёнными из них являются следующие два метода а) метод Гарди, заключающийся в измерении времени жизни пузырьков, поднявшихся на свободную поверхность жидкости над пузырьком образуется тонкая двусторонняя жидкая плёнка, длительность существования которой с момента выхода пузырька к поверхности до момента, когда он лопается, и принимается за меру устойчивости плёнки б) метод пенообразования путём стандартизованного встряхивания, обычно в закрытом сосуде мерой устойчивости является время с момента прекращения встряхивания до исчезновения пены. Опыты Гарди 3 производились главным образом с нерастворимыми [c.190]

Влияние тонких слоёв посторонних веществ на поверхности металла на фотоэффект. Состояние поверхности катода, т. е. количество адсорбированного на этой поверхности газа, тончайшие плёнки посторонних веществ и химических соединений играют в случае фотоэффекта ещё более заметную роль, чем в случае термоэлектронной эмиссии [401—406]. Термоэлектронной эмиссией пользуются или её изучают при высоких температурах катода, при которых происходит удаление адсорбированного газа и легко испаряющихся веществ и разложение многих соединений. Наоборот, фотоэффектом пользуются и чаще всего его изучают при температурах порядка комнатной, при которых очень трудно сохранить поверхность металла чистой. Наиболее чувствительными к фотоэффекту оказываются щелочные металлы. Эти металлы весьма легко вступают в химические соединения, легко плавятся и возгоняются и поэтому не могут быть очищены или обезгажены прокалкой при высокой температуре. Единственный способ получить более или менее свободную от посторонних загрязнений поверхность щелочного металла — многократная перегонка этого металла в очень высоком вакууме (при остаточном давлении порядка 10 мм Hg). [c.141]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология