Моделирование экспонировании и проявлении

Моделирование экспонирования и проявления [c.53]

Моделирование процесса проявления негативного резиста более сложно, так как наряду с проявлением протекает экстракция растворимых веществ с экспонированных участков, набухание последних и усадка после сушки. Несмотря на это, и здесь приближенные модели дают хорошее согласие с экспериментом [13], особенно для дозы, условно локализованной в основном в пределах оси экспозиционного пучка излучения и ширины линий элементов рельефа больше 0,4 мкм. [c.221]

Справочник химика 21