Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Образование в аппаратах отложений высокомолекулярных органических соединений

    ОБРАЗОВАНИЕ В АППАРАТАХ ОТЛОЖЕНИЙ ВЫСОКОМОЛЕКУЛЯРНЫХ ОРГАНИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ [c.78]

    Следует подчеркнуть, что механизм образования слоя отложений высокомолекулярных органических веществ, вероятно, является индивидуальным, если не для каждого вещества, образующего этот тип загрязнений, то для определенных классов (групп) таких соединений. Кинетика образования осадка высокомолекулярных веществ зависит от очень многих факторов гидродинамических условий в аппарате, производительности мембран, состояния их поверхности, распределения электростатических зарядов по поверхности мембран, температуры, ионного состава, pH раствора и т.п. [c.80]


Смотреть главы в:

Обессоливание воды обратным осмосом -> Образование в аппаратах отложений высокомолекулярных органических соединений



ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Высокомолекулярные соединени

Высокомолекулярные соединения

Высокомолекулярные соединения органические

Органические высокомолекулярные



© 2025 chem21.info Реклама на сайте