Кремний испарение с помощью нагрева электронной бомбардировкой

Несмотря на то, что нагрев электронной бомбардировкой является очень гибким и почти универсальным методом испарения, тем не менее, если есть возможность использовать легко контролируемый прямонакальный нагрев, этот метод не используют. Метод электронной бомбардировки имеет практическое преимущество в том случае, когда необходимо получить максимальную чистоту пленки или если отсутствует подходящее вещество для подставки. В этом случае примерами могут служить испарения эпитаксиальных пленок кремния [103] и весьма чистых тугоплавких металлов, таких как Та, ЫЬ, W и Мо [109, 110, 112, 120], для которых требуется температура от 3000 до 3500° С. Специальный интерес представляет также испарение графита и бора с помощью электронной бомбардировки [121, 122]. Наконец, электронные пушки с охлаждаемыми водой подставками все чаще используются для испарения металлов платиновой группы и некоторых из наиболее реактивных металлов, подобных А1, N1 и Ре. [c.77]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология