Нагрев электронно-лучевой

Электронно-лучевой нагрев [c.329]

Электронно лучевой переплав (ЭЛП) проводится в электронно-лучевых печах (рис. 5.66). В них нагрев и плавление металла происходят под воздействием тепла, выделяющегося при резком торможении электронов, поток которых, выходящий из электронной пушки, направлен на металл. При нагреве до высокой температуры в глубоком (1,3 10" —1,3 10 Па) вакууме катод пушки испускает электроны, которые формируются в направленный поток с помощью фокусирующих и отклоняющих устройств при приложении высокого (до 40 кВ) напряжения между анодом и катодом пушки. Для обеспечения равномерного нагрева обычно используются несколько пушек. [c.96]

Одним из видов нанесения защитных покрытий на детали из высокотемпературных материалов служит метод окунания в расплав [1]. Такой метод используется для кратковременной защиты покрытий при горячей обработке давлением молибдена и ниобия. Для нанесения качественного покрытия необходимо определение оптимальных температур и состава расплава, при которых происходит удовлетворительное смачивание твердых металлов расплавом. Смачивание твердых молибдена и ниобия расплавами на основе алюминия исследовали на установке, позволяющей раздельный нагрев твердой и жидкой фаз [2]. Опыты проводили в среде гелия, температуру фиксировали платина — платинородиевой термопарой. В качестве объектов исследования использовали молибден и ниобий после электронно-лучевой плавки, алюминий чистоты 99,98% и порошки легирующих компонентов кремния, титана и хрома марки ч. д. а. Для экспериментов готовили навески одинаковой массы 500 мг. При достижении твердой подложкой температуры опыта навеска плавилась и соприкасалась с подложкой, время контакта при заданной температуре составляло 2 мин, по истечении которого каплю фотографировали аппаратом Зенит-С на [c.55]

ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ НАГРЕВ [c.329]

Термический и электронно-лучевой нагрев легко могут обеспечить масштабное испарение при плотностях атомов в рабочем объёме 10 10 атом/см . [c.379]

Рассматриваемый метод нашел широкое распространение в ряде областей. Его используют в чистой металлургии. Применяя электронно-лучевой нагрев (дает температуру 3500° С и выше), очищают такие тугоплавкие металлы, как МЬ, Та, от следов Ре, N1, 51, Си и других примесей. Олово получают чистотой в 99,999% (чистота, как говорят, пять девяток ), что отвечает одной части примеси на миллион частей 5п. Еще более высоких степеней очистки добиваются для полупроводниковых материалов. Среди них германий стоит на одном из первых мест по степени чистоты и совершенству своей кристаллической решетки. [c.436]

Та Электронно-лучевой нагрев (вакуумный испаритель), вероятно, выше 2000 700 В основном поликристаллические пленки 10 мм рт. ст. [21] [c.243]

Be 1100—1200 (иногда электронно-лучевой нагрев) Ниже Гпл. главным образом поликристаллические пленки [22] [c.243]

При зонной плавке используют такие виды нагрева, применение которых не вносит загрязнений в обрабатываемый слиток высокочастотный индукционный, электронно-лучевой и радиационный. Индукционный нагрев наиболее часто применяют при зон- [c.302]

Пока еще не ясно, какой именно метод окажется наиболее приемлемым. Преимущество электронно-лучевого и УФ-методов заключается в том, что они наиболее пригодны для сушки деталей из пластмасс, применение которых в автомобилестроении непрерывно возрастает из-за снижения веса корпуса. Инфракрасный нагрев имеет преимущество по причине сокращения времени сущки, уменьшения длины конвейерной линии, минимального загрязнения и гибкости технологического процесса (например возможности использования в сочетании с конвективным обогревом). Ниже приведены типичные режимы печной сушки [c.323]

Для электрофизических насосов характерно разнообразие физических принципов и сфер применения. К их числу обычно относят все типы насосов поверхностного действия, в которых для создания и ак- тивации сорбирующих пОверхностей используются электрический разряд в вакууме, резистивный и электронно-лучевой нагрев, потоки ускоренных заряженных частиц, электромагнитное излучение. [c.3]

Электронно-лучевые печи применяются для получения особо чистых металлов. В печах этого типа нагрев осуществляется благодаря бомбардировке поверхности нагреваемого предмета быстро движущимися электронами. Так как создать направленный поток электронов и сообщить ему достаточную энергию можно только в условиях высокого вакуума, в электронно-лучевых печах поддерживается давление порядка 10 -10 " Па. Основным элементом печи является нагревательный элемент или пушка, снабженная электромагнитным фокусирующим устройством и системой развертки луча, что позволяет получить пятно диаметром 5-10 мм на расстоянии 1,5-2 м от катода и перемещать его по поверхности слитка. Следует отметить, что электронно-лучевые печи используются не только для плавки, но и для различных процессов, связанных с нагревом материалов, например, при выращивании и зонной очистке монокристаллов, термической обработке ленточных и проволочных материалов, испарение металлов с целью нанесения покрытий, для сварки, литья и т.д. [c.18]

Процесс испарения и качество нанесенных пленок в значительной мере определяются типом и конструкцией испарителей, которые могут иметь резистивный или электронно-лучевой нагрев. Выбор типа испарителя зависит от вида испаряемого материала, его агрегатного состояния и температуры в процессе испарения, а также других факторов. [c.31]

В разд. 6 приведены методы и фактические данные для решения характерных для электротермических установок задач теплообмена к таким задачам относятся нестационарный процесс нагрева изделий с внутренними источниками теплоты, теплообмен между нагревателем и изделием в печи сопротивления с учетом кoнфигypaциIi нагревателя, инфракрасный нагрев изделий с использованием темных и светлых излучателей II т. д. Особо следует выделить приведенные в разделе данные для расчета высокотемпературных процессов теплообмена при нагреве и плавке металлов в электронно-лучевых и плазменных установках, отличающихся специфическими видами теп-лопереноса (за счет кинетической энергии пучка электронов или энергии струи плазмы). [c.10]

В ЭТУ, использующих электронно-лучевой нагрев, электрическая энергия преобразуется сначала в кинетическую энергию электронного пучка, бомбардирующего нагреваемую поверхность, а затем, при столкновении пучка с поверхностью нагрева, в тепловую. Ускоренные электроны пучка, достигнув поверхности нагрева, внедряются в нее на определенную глубину. Г1ри пробеге в веществе электроны взаимодействуют с его кристаллической рещеткой, в результате чего возникают возмущения электрических полей микрочастиц, образующих эту решетку. Внешне эти возмущения проявляются как увеличение амплитуды колебаний микрочастиц вещества, т, е. как рост его температуры. Таким образом, основная доля кинетической энергии пучка бомбардирующих электронов превращается в теплоту, разогревающую вещество в области падения на него пучка. Далее теплота распространяется в веществе либо за счет его теплопроводности при нагреве твердого тела, либо за счет теплопроводности и конвекции при нагреве жидких [c.329]

Существует несколько способов нагрева, использование которых определяется, с одной стороны, физико-химическими свойствами кристаллизуемого вещества, а с другой — методом выращивания монокристаллов. Например, метод Вернейля и газопламенный источник нафева неотделимы друг от друга. Аналогично и метод гарниссажа [103] применяется только с высокочастотным нафевом и т. д. Кроме того, тип источника нафева зачастую неотделим от условий выращивания монокристаллов. В частности, электронно-лучевой нагрев, возбуждаемый только в вакууме, применим лишь при выращивании монокристаллов в вакууме. Использование плазменного нагрева, с характерным для этого способа потоком газов, возможно только при кристаллизации в газовой среде. [c.129]

Электронно-лучевой нагрев позволяет, в отличие от рассмотренных источников нагрева, сфокусировать пучок электронов непосредственно на поверхность исходного вещества. В этом случае, однако, процесс расплавления возможен только в глубоком вакууме. Энергия пучка электронов преобразуется в тепловую за счет соударений с веществом и определяется электрическим полем высокого напряжения (10+35 кВ). На рис. 99 схематично представлень] основные узлы электронно-лучевого нагрева [108]. [c.136]

Сущность. Электронно-лучевая обработка (ЭЛО) основана на воздействии на материал заготовки сформированного пучка электронов, кинетическая энергия которого, преобразуясь в рабочей зоне в тепловую, вызывает нагрев, плавление и (или) испарение обрабатываемого материала. [c.375]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология