Удаление низкомолекулярных соединений из поликапроамида обработкой перегретым водяным

УДАЛЕНИЕ НИЗКОМОЛЕКУЛЯРНЫХ СОЕДИНЕНИЙ ИЗ РАСПЛАВЛЕННОГО ПОЛИКАПРОАМИДА ОБРАБОТКОЙ ПЕРЕГРЕТЫМ ВОДЯНЫМ ПАРОМ, АЗОТОМ ИЛИ ИХ СМЕСЬЮ [c.153]

Как уже указывалось, характерной особенностью удаления низкомолекулярных соединений из расплава поликапроамида посредством перегретого водяного пара является недостаточная осушка расплава. Поэтому содержание низкомолекулярных соединений в расплаве после обработки паром быстро возрастает. Например, если расплав, стекающий из сепаратора, имеет 2,8—3,0% низкомолекулярных соединений, то содержание последних в расплаве через 15—20 мин возрастает до 3,5—3,7%. [c.93]