Найлон фотолиз

При сопоставлении результатов действия ультрафиолетовой радиации (ртутная лампа) на величину прочности на разрыв и относительное удлинение различных полимеров было установлено, что полиэтилен, полигексаметиленадипамид (найлон-66) и полиэтиленгликольтерефталат разлагаются в атмосфере азота быстрее, чем в вакууме. Политетрафторэтилен быстрее разлагается в вакууме. При оценке результатов фотолиза в вакууме и в атмосфере азота найдено, что отношение [c.112]

Не всегда укрепляющий слой добавочный полимер хорошо сов мещается со светочувствительной композицией, поэтому в ряд( работ его вводят в внде отдельной фазы (слоя). Например на подложку анодированного алюминия наносят резист, затем нг него найлон и сверху снова резист. Во время фотолиза засвечи ваются оба слоя с хинондиазидом прн проявлении в этих места вместе с новолаком удаляется и промежуточный найлоновый слор [пат. Великобритании 1478333]. Это усложнение технологии дает возможность при небольшой суммарной толщине слоя повысит светочувствительность при меньшем расходе хинондиазида, а также тиражеустойчивость печатной формы. Укрепляющий полимер мо жно наносить или на слой резиста, или под него, используя растворители, избирательно растворяющие только компоненты слоя, наносимого последующим [пат. США 4207106]. [c.84]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология