Композиции светочувствительных слоев

III. 2.3.2. Композиция светочувствительных слоев [c.131]

Сополимеры стирола с кислыми эфирами малеиновой кислоты, имеющими температуру размягчения выше 150°С, хорошо совмещаются с диазосмолами В, Такую композицию применяют для получения светочувствительных слоев высококачественных форм Для офсетной печати [пат, ФРГ 3130987]. [c.117]

Среди таких соединений привлекли интерес и соединения висмута. Были разработаны процессы с физическим и химическим проявлением фотослоев, содержащих оксигалогениды висмута в виде микрокристаллов в связующем поливиниловом спирте. Соединения висмута легко гидролизуются и образуют суспензии с поливиниловым спиртом. Введение в светочувствительный слой соляной кислоты и комплексообразователей висмута позволило получить оптически прозрачные слои. Типичная бессеребряная светочувствительная висмутсодержащая композиция [305] содержит, г/л тартрат висмута 10—20 цитрат натрия 10—20, соляная кислота 40—50 поливи- [c.288]

Введение частично фторированного поверхностно-активного полимера в композицию делает гораздо более ровным слой резиста на подложке, улучшает его светочувствительность и повышает механические свойства резистного рельефа [пат. ФРГ 2914558]. [c.81]

Другой метод усиления серебром, который может быть исполь зован в фотографических системах с многостадийным усилением, основан на применении сухой термической обработки. За рубежом эта система получила название процесс с сухим серебром , Сущность данного процесса состоит в том, что светочув- ствительное вещество состоит из микрокристаллов галогеиида серебра и серебряных солей органических кислот (обычно стеариновой или бегеновой). Изготовление светочувствительной композиции, в которой в качестве связующего обычно используются пбливинилбутираль или поливинилацетат, производится в среде органических растворителей. В состав полученного на основе такой композиции светочувствительного слоя вводятся проявляющее [c.129]

Использование азидополимеров в светочувствительных композициях представляется перспективным благодаря гомогенности светочувствительных слоев, получаемых на их основе. Кроме того, наличие азидогрупп в самом полимере облегчает его структурирование при облучении. Композиции резистов состоят, кроме полимера, из растворителя, иногда из сенсибилизатора и красителя возможны добавки других инертных полимеров. Светопоглощение применяемых азидополимеров лежит в основном в области 250— 300 нм, В настоящее время такие композиции могли бы найти применение как материалы для коротковолнового УФ-света. [c.155]

Выбор светочувствительных компонентов для этого материала чрезвычайно широк. Практически к использованию предлагаются любые светочувствительные системы хинондиазиды солн диазония азиды композиции, генерирующие при фотолизе радикалы, напрнмер, содержащие полигалогениды СНСЦ СВг4, СВгзЗОгСбНв с дифениламином или нафтолом композиции хинонов с комплексами теллура или кобальта коллоиды, очувствленные бихро-матами поливинилциннаматы. В них дополнительно могут быть включены стабилизаторы, увеличивающие срок хранения, красители или промоторы сухого проявления. В качестве полимерных связующих для этих композиций рекомендуются феноло-формальдегидные смолы, ПВБ, поливинилформаль, ПС, полиакриловая кислота, ПММА, ПВА, сополимеры винилиденхлорида, акрилонитрила, винилацетата с малеиновым ангидридом, водорастворимые полимеры — желатина, ПВП, ПВС. Термореактивные полимеры, например эпоксидные смолы, могут быть введены в некотором количестве в термопластичное связующее, но при этом необходимо соблюдать осторожность при нагревании светочувствительного материала. Толщина светочувствительного слоя может быть от 0,5 до 500 мкм, предпочтительно 20—100 мкм. В качестве материала листа, принимающего переносимое изображение, могут быть использованы полиамиды, сополимеры винилиденхлорида, бумага, ламинированная полиэтиленом или полипропиленом. Этот лист [c.201]

Подобный материал (рис. VI. 4) был предложен несколько ранее [пат. Великобритании 1563010], причем в качестве светочувствительного слоя рекомендованы различные композиции. Связующими могут служить гомо- и сополимеры (как двойные, так и тройные) винилхлорида, винилацетата, малеинового ангидрида, акрилонитрила, винилового спирта. При экспонировании адгезия светочувствительного слоя к металлу становится меньше адгезии слоя металла к подложке, поэтому при отделении светочувствительного слоя после засветки на подложке сохраняется металлический рельеф, соответствующий экспонированным участкам слоя, а на светочувствительном слое создается рельеф металла, отвечающий рисунку шаблона. Металл на подложку наносят вакуумным напылением, катодным осаждением, электролизом или гальванопластикой применяют А1, 2п, Ag, Аи, а также ПОг, Сг15 толщина слоя металла до 100 мкм. [c.204]

Однако для того, чтобы светочувствительная композиция на ос11ове органического полимера нашла техническое применение, она должна обладать еще целым комплексом специфических свойств. Так, в качестве подложек светочувствительных слоев могут быть использованы весьма различные, обычно сверхчистые материалы, причем в случае применения в радиоэлектронике класс обработки [c.92]

Сенситометрическая кривая светочувствительного слоя отражает кинетику суммарного процесса образования фоторельефа 3 слое данного полимера, на которую влияют соотношение спектров эмиссии источника (как правило, полного спектра ртутной лампы среднего или высокого давления) и поглощения слоя интенсивность фотолитического процесса с участием хромофоров композиции скорость последующих темновых реакций и т. д. Например, начальный момент возникновения фоторельефа констатируется с помощью микроинтерферометра Линника МИИ-4 по появлению на подложке нерастворимой в проявляющем растворе пленки с минимальной толщиной 0,03 мкм. Этот момент определяет пороговую чувствительность композиции 5пор (рис. III. 1). Часто оценивается также светочувствительность при рабочей толщине слоя, обычно 0,5 мкм (So,s см2-Вт -с ). [c.96]

В подавляющем большинстве патентов на азидсодержащие композиции для светочувствительных слоев и фоторезистов используются арилазиды. В литературе описана только одна попытка сопоставления диарил-, дикарбонил- и дисульфонилдиазидов по пх фотоструктурирующей активности в различных полимерных матрицах. В качестве структурной основы таких веществ был использован дифенилдиазетидиндионовый цикл [88] [c.129]

Монография подготовлена учеными СССР н ЧССР. Описаны прин ципы создания светочувствительных полимерных материалов (фото-, электроио- и рентгеиорезистов). Приведены их технические свойства и определены области применения в качестпе светокопировальных слоев, в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат, полиграфических печатных форм н т. п. Рассмотрены методы синтеза отдельных компонентов и композиций в целом. [c.2]

Создание и исследование резистов продолжается до сих пор с целью разработки материалов с оптимальными свойствами. Получены резисты для электроно- и рентгенолитографии, разрабатываются материалы для ионной литографии (гл. VH). Решающую роль в росте производительности литографии может сыграть повышение чувствительности резистов, поэтому с целью достижения большей светочувствительности в новых разрабатываемых позитивных резистах используется термическое усиление первичных процессов в результате каталитического действия продуктов фотолиза светочувствительного компонента на гидролиз пленкообразующего полимера. Разрабатываются новые типы резистов стойкие к ИХТ, для создания чувствительных к коротковолновому УФ-свету планаризационных слоев, для создания слоев и проявления без участия растворителей (сухие резисты) (гл. VI). Очевидно, для развития микроэлектроники необходимо создавать новые резисты, выдвигая и используя перспективные идеи. Особенно важно находить эффективные фотореакции и на этой основе получать рези . тные композиции. Так, относительно недавно была обнаружена и изучена высокая светочувствительность ониевых солей органических соединений элементов пятой и шестой групп использование полученных результатов в литографии позволило ввести в обиход в качестве полимерного компонента эпоксидные смолы (гл. III). Важным материалом для литографии оказались также полиолефинсульфоны. [c.14]

Все реагенты, используемые для создания резистных композиций и при работе с подложками и резистными слоями, должны иметь квалификацию не ниже ч.д.а. Растворы резистных композиций с целью повышения их стабильности и улучшения качества пленок очищают от примесей центрифугированием, а также фильтруют через специальные фторопластовые фильтры с размером пор 0,2 мкм. Растворы резистов постепенно разлагаются при комнатной температуре в основном за счет светочувствительных компонентов, например, азиды, хинондиазиды выделяют азот. Разложение этих компонентов понижает светочувствительность резистов и изменяет их свойства. При хранении из резистов может выкристаллизовываться светочувствительный компонент или продукты его превращений. Повышенное содержание воды в пленках хинон-диазидных резистов может ухудшить адгезию слоя, явиться причиной ряда других технологических осложнений [1—3]. Так как слои позитивных резистов при обработках не теряют светочувствительности, возможна их реэкспозиция. Необходимо во избежание фоторазложения резиста и изменения его характеристик проводить технологические операции при подходящем освещении. [c.15]

Предложены характеристики невзаимозаместимости и фотографической широты [72]. Известна методика, определяющая свойства слоя по сенситометрической (характеристической) кривой. Она отвечает зависимости й — lgЯ, где й — толщина слоя, Н 1/3 — экспозиция, т. е. величина, обратная светочувствительности. Для негативных составов начальный момент возникновения фоторельефа — появление на подложке нерастворимой в проявляющем растворе пленки с минимальной толщиной 0,03 мкм — определяет пороговую чувствительность композиции (5пор). Часто оценивается также светочувствительность при рабочей толщине слоя, обычно 0,5 мкм [5о,5 см2/(Вт-с)]. Мерой интенсивности процесса служит коэффициент контрастности — тангенс угла наклона прямолинейного участка характеристической кривой (он может принимать значения от единиц до нескольких десятков единиц). Эта методика разработана для определения интегральной и спектральной чувствительности негативных и позитивных фоторезистов. На ее основе получают ряд параметров, характеризующих фототропизм слоя [73]. [c.47]

Сенситометрическая кривая отражает кинетику суммарного процесса образования фоторельефа в слое полимера, иа которую влияют соотношение спектров эмиссии (как правило, полного спектра лампы среднего или высокого давления) и спектра поглощения слоя, интенсивность фотолитического процесса с участием хромофоров композиции, скорость последующих темновых реакций и т. д. Особенности оценки светочувствительности электронных резистов см. в разделе УП.31. [c.47]

Фирма ЗМ (США) вводит в композицию позитивного резиста с целью улучшения механических свойств слоя смесь НС и акрилатного полимера (например, сополимера 35 % стирола, 59 % этилакрилата и 6 % метакриловой кислоты), модифицированных полиизоцианатами в присутствии триэтилендиамина [пат. Великобритании 1474073]. С этой же целью составляют композицию фоторезиста из светочувствительного хинондиазида, НС, резола и добавок — эпоксифенольного лака и бутилированного стиромаля после обычных операций и обработок получают высокотираже-устойчивую печатную форму [а. с. СССР 889486]. [c.81]

В пат. США 3984250 рекомендуется вводить в композиции для получения позитивных копировальных слоев светочувствительные азидоариловые эфиры (I) или азидофениловые амиды (И) 5-суль-фокислоты 2-диазидо-1-нафталинона [c.83]

Не всегда укрепляющий слой добавочный полимер хорошо сов мещается со светочувствительной композицией, поэтому в ряд( работ его вводят в внде отдельной фазы (слоя). Например на подложку анодированного алюминия наносят резист, затем нг него найлон и сверху снова резист. Во время фотолиза засвечи ваются оба слоя с хинондиазидом прн проявлении в этих места вместе с новолаком удаляется и промежуточный найлоновый слор [пат. Великобритании 1478333]. Это усложнение технологии дает возможность при небольшой суммарной толщине слоя повысит светочувствительность при меньшем расходе хинондиазида, а также тиражеустойчивость печатной формы. Укрепляющий полимер мо жно наносить или на слой резиста, или под него, используя растворители, избирательно растворяющие только компоненты слоя, наносимого последующим [пат. США 4207106]. [c.84]

Смотреть страницы где упоминается термин Композиции светочувствительных слоев: [c.111] [c.117] [c.120] [c.121] [c.144] [c.147] [c.200] [c.202] [c.207] [c.473] [c.111] [c.120] [c.121] [c.144] [c.147] [c.200] [c.201] [c.207] [c.473] [c.151] [c.79] [c.79] [c.81] [c.82] [c.83] [c.87] [c.87]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология