Фоторезиста рисунки в слое отклонение размеров

Самые большие затруднения при изготовлении рисунков микронных размеров появляются из-за явлений интерференции при экспонировании в монохроматическом свете. Многократные отражения на границах раздела фоторезист — воздух и фоторезист — подложка приводят к образованию отклонений интенсивности света в слое фоторезиста в направлении. [c.632]

Справочник химика 21