Фоторезист негативно работающий

Другие способы обратного маскирования. Недостатки, связанные с введением фоторезиста в вакуумную систему, можно избежать, применяя для создания защитного негативного рельефа другие легко растворимые материалы. Но в этом случае необходимо ввести дополнительную операцию, а именно, осаждение пленки, из которой должен быть создан защитный негативный рельеф методами обычной фотолитографии. О таком способе сообщается в работе Мэрфи [131], который использовал пленку В1гОз, полученную реактивным распылением. Этот окисел имеет хорошее сцепление со стеклом и легко растворяется в 1%-ном растворе хлористоводородной кислоты. При последующем осаждении пленки, в которой [c.625]

В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на ЗЮг/З и проявление экспонированного Хе—Hg-лампой слоя проводят с помощью органических растворителей диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного полиметилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при проявлении щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. Поэтому предлагается использовать для глубокого УФ-света резист MRS-1 из поли-п-гидроксистирола и 20 % раство- [c.186]

Поскольку изготовители фоторезистов не сообщают химических составов и свойств, потребители должны полагаться на рекомендуемые соответствующими изготовителями методы применения и реактивы. Практические сведения подобного рода всегда имеются. Продукты фирмы Кодак нашли широкое распространение, и было опубликовано большое количество информации по опыту работы с фоторезистами этой фирмы. Все сказанное не относится к фоторезистам других фирм, а обсуждение негативных фоторе-8ИСТ0В, нх природы и поведения касается главным образом материалов фирмы Кодак , [c.589]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология