Полиметилизопропенилкетон

При облучении полиметилизопропенилкетона у учами или УФ-светом происходит деструкция цепи полимера энергия одного разрыва в первом случае составляет 84 эв, а во втором — 22 Полимеры и сополимеры метилизопропенилкетона ги- [c.601]

Для полиметилизопропенилкетона наблюдалось при стоянии некоторое изменение окраски (легкое пожелтение). Причины, вызывающие окраску, еще точно не установлены, но, повидимому, это явление связано с недостаточной очисткой кетона. В настоящее время для предупреждения этого рекомендуется добавка некоторых стабилизующих веществ (например, аминов, тиосоединений). [c.407]

Полиметилизопропенилкетон представляет собой бесцветную прозрачную, сильно блестящую стекловидную смолу. [c.325]

В электронных спектрах полимерных фотолизатов наблюдается более сложная картина в зависимости от природы полимерной матрицы и энергии монохроматического света идет не только падение интенсивности полосы поглощения, но и ущирение полосы и сдвиг положения максимума поглощения [9, 14, 15, 32]. Смещение становится еще более сильным в бескислородной среде [33]. Батохромный сдвиг полосы свидетельствует об алкилироваиии полимером халкона по атомам азота нитрена. Именно образование Н-алкильных производных азота и считается наиболее вероятной причиной фотоструктурировання полимеров. При фотолизе в широкой полосе спектра вначале наблюдается батохромный сдвиг полосы поглощения (сшивание полимера за счет алкилирования по азоту), а затем резкое падение интенсивности полосы и сглаживание структуры спектра, свидетельствующее о распаде хромофора. Этим может быть объяснена известная фотодеструкция в местах сшивания первоначально структурированного полимера при длительном фотолизе [9]. Аналогичная картина наблюдалась и для фотолиза диазида I в пленках полиметилизопропенилкетона [15] материал разрабатывался для фоторезиста сухого проявления [14, 15], [c.138]

Промышленность выпускает ряд составов на основе диазида I и полиметилизопропенилкетона. Их проявляют смесью циклогексана и 2-нитропропана. Они обеспечивают высокое разрешение и термическую стойкость рельефа, который выдерживает плазменное травление, например F4—О2 (96 4). Разрешение и светочувствительность таких составов (например, ONNR-20) аналогичны параметрам, получаемым для позитивных фоторезистов [15]. [c.142]

Сополимеры замшенных в ядре фенилизопропенилкетонов и метилметакрилата с Mw = 3-10 пригодны как резисты для УФ-све-та в области от 250 до 350 нм. Они отличаются во много раз более высокой светочувствительностью, чем ПММА и полиметилизопропенилкетон. Их фотораспад, вероятно, протекает по схеме Норриш-1. [c.182]

При 270° полиметилизопропенилкетон также отщепляет воду, причем это отщепление не сопровождается какими-либо осложняющими реакциями [8]. Однако полимер при этом теряет только 63% кислорода эта величин а мало изменяется с температурой, оставаясь практически такой же дал<е при 360°. Сходство этой реакции с реакциями полиметилвинилкетона, несомненно, свидетельствует о том, что и в этом случае имеет место внутренняя альдольная конденсация. Интенсивно окрашенный остаток растворим в ацетоне, следовательно, сшивание не происходит. Отщепление более 50% кислорода указывает на отсутствие структуры голова к голове, хвост к хвосту . Количество остаточного кислорода (37%) значительно ближе к теоретическому значению—31,18% для беспорядочного расположения структур, чем к 18,4%—количеству, относящемуся к полимеру, имеющему строение исключительно голова к хвосту . Марвел, Ридл и Корнер [8], исходя из этих данных и допуская существование беспорядочного распределения структур по цепи, указывали также на то, что низкое количество удаляемого кислорода может обусловливаться затруднениями, связанными с присутствием а-метильной группы в этом гомологе [c.209]

Полиметилендиизоцианат Полиметилизопропенилкетон Полиметилметакрилат и другие полиметакрилаты Поли-а-метилстирол Поли-4-метоксистирол Поли-1 -нитропропилен Полиоксадиазолы [c.21]

Полиметилизопропенилкетон поглощает свет в широкой полосе от 250 до 340 нм с максимумом при 280 нм. Область спектральной чувствительности пленки резиста толщиной 0,5 мкм (Mw = 5,4-10 ) в общем отвечает контуру полосы спектра. При этом, судя по сенситограммам, этот полимер в 5 раз более светочувствителен, чем ПММА, а введение в его состав до 10 % (масс.) сенсибилизатора — /г-метокси-, 3,4-диметокси- или лучше всего п-грег-бутилбензойной кислоты (пат. ФРГ 2911286) — повышает светочувствительность в 3 раза. Резист хорошо выдерживает плазменное травление, что отчасти объясняется сохранением в его слое почти 90 % сенсибилизатора с ароматическими ядрами. Этот резист выпускает фирма Tokyo Ohka (Япония) под названием ODUR-1011 [17, 18]. [c.182]

В отличие от композиций с диазидом I и другими сопряженными диазидами, указанные системы нечувствительны к кислороду, а из-за их спектральных свойств работа с ними может проводиться целиком при обычном дневном освещении помещений. Нанесение композиции на ЗЮг/З и проявление экспонированного Хе—Hg-лампой слоя проводят с помощью органических растворителей диазидодифенилсульфид придает слою светочувствительность, в сотни раз превышающую светочувствительность ПММА, она приближается к светочувствительности сенсибилизированного полиметилизопропенилкетона и обычных негативных фоторезистов. Однако разрешающая способность резиста мала, она ограничена деформациями, вызываемыми набуханием слоя при проявлении. Набухание, а следовательно, и деформации отсутствуют при проявлении щелочью экспонированных композиций азидов и полимеров с арилгидроксигруппами, что обеспечивает субмикронное разрешение. Поэтому предлагается использовать для глубокого УФ-света резист MRS-1 из поли-п-гидроксистирола и 20 % раство- [c.186]

Подобно пол1Иметилвинилкетону и полиметилизопропенилкетону при длительном нагревании (6 ч при 400 °С) этого полимера в вакууме (12 мм рт. ст.) выделяется вода в результате конденсации кротонового типа с образованием полисопряженных лестничные структур. Реакция (протекает, по-видимовду, как внутримолеку-лярно [c.148]

Химия и технология синтетических высокомолекулярных соединений Том 9 (1967) -- [ c.601 ]

Технология синтетических пластических масс (1954) -- [ c.156 ]

Химия искусственных смол (1951) -- [ c.325 ]

Химия сантехнических полимеров Издание 2 (1964) -- [ c.359 ]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология