Магнитное поле, роль в ионном распылении

До сих пор мы полностью игнорировали существование вторичных электронов при ВЧ распылении, поскольку их роль в генерации плазмы незначительна. Однако вторичные электроны существуют и при распылении диэлектриков ионами с энергией в несколько килоэлектрон-вольт, т. е. в условиях, когда коэффициенты кинетической эмиссии могут быть больше единицы, число таких электронов может быть довольно большим. Эти электроны ускоряются в ионной оболочке в направлении, перпендикулярном поверхности мишени, и проходят плазму с высокими скоростями. Они могут стать основной причиной нагрева и электрического под-заряда подложки, если последняя расположена на их пути, и меры по искривлению их траекторий с помощью магнитных полей не предприняты. Если энергия вторичных электронов, облучающих какой-либо электрод (в частности, подложку), будет достаточно большой, чтобы коэффициент вторичной электронной эмиссии этого электрода стал большим единицы (для большинства диэлектриков эта энергия равна приблизительно 40 эВ), отрицательный потенциал его уменьшится и станет ближе к потенциалу плазмы. [c.368]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология