Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Маски для напыления чистка

    Напыление суспензии из частиц BI2O3 размером 0,1—0,5 мм в среде связующего на маску с образованием отражающих электроны пленок, имеющих однородное распределение частиц, использовано при изготовлении цветных катодных лучевых трубок [515]. Газообразные галогениды висмута предложено использовать для сухой чистки твердых поверхностей, прежде всего полупроводников. Метод отличается простотой, соверщенством и высокой воспроизводимостью и рекомендован к применению в производстве электронных приборов [516]. Оксид висмута BI2O3 используют в качестве добавки к AI2O3 при изготовлении деталей электронной техники [517]. Висмут используют в качестве компонента в устройствах для записи информации с ультравысокой плотностью записи. Так, записывающая среда представляет собой ферроэлектрический слой, включающий буферный слой на подложке, а также цирко-нат титаната свинца, ламеллярный висмут или полимерный ферроэлектрический материал [518]. Замещение Sn—РЬ-покрытий для производства электронных модулей на Sn—Bi-покрытия целесообразно по экологическим причинам. Показано, что нет проблем и для технического применения Sn—Bi-покрытий в промышленности [519]. [c.322]



Технология тонких пленок Часть 1 (1977) -- [ c.564 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Чистка



© 2025 chem21.info Реклама на сайте