Аппараты для удаления низкомолекулярных соединений из расплава поликапроамида под вакуумом

Напорный блок высокого давления 5 снабжен рабочим и резервным насосами НШ-200, которые подают расплав поликапроамида в аппарат 14 (АОМ-10) для дополиамидирования и удаления низкомолекулярных соединений в условиях вакуума. Вакуумная обработка расплава в тонком слое позволяет снизить содержание низкомолекулярных соединений в полимере до 2,8— 3,0% и повысить относительную вязкость его до 3,0—3,5. [c.112]