Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Аппараты для удаления низкомолекулярных соединений из расплава поликапроамида

    Принципиальная схема аппарата для обработки расплавленного поликапроамида паром (азотом) приведена на рис. 65. В корпусе 1 аппарата расположена труба (одна или несколько), внутри которой расплавленный поликапролактам распыливается паром (азотом). Обработанный поликапроамид выводится из аппарата при помощи шнека 3. К преимуществам технологической установки можно отнести простоту, надежность и эффективность действия, возможность изменения и регулирования производительности в широких пределах и автономность управления процессом, а также небольшие массу и габариты. При промышленной эксплуатации этих аппаратов было установлено, что они обеспечивают эффективное удаление НМС при производительности 200—750 кг/сут. так что конечное содержание НМС не превышает 3,5 0,2%.Однако из-за сравнительно высокого остаточного содержания влаги при обработке расплава водяным паром получаемый полимер нестабилен, что приводит к необходимости удалять НМС в непосредственной близости от прядильных машин или аппаратов для формования пластмасс. Имеются и аппараты других конструкций для удаления низкомолекулярных соединений из расплава при помощи инертного газа. В этих аппаратах для увеличения поверхности соприкосновения инертного газа и расплава используют различные способы. По данным патента [11], это достигается при помощи электрообогреваемого испарителя 2, который также обеспечивает к тому же образование тонкого слоя полимеризата (рис. 66). Аппарат снабжен дозирующим насосиком 1 и напорным насосиком 4. На корпусе аппарата расположены штуцера 5 и 7 для входа н выхода инертного газа. После удаления НМС расплав накапливается в болоте 6, откуда забирается напорным насосом 4 на формование через фильеру 5.  [c.155]


    Напорный блок высокого давления 5 снабжен рабочим и резервным насосами НШ-200, которые подают расплав поликапроамида в аппарат 14 (АОМ-10) для дополиамидирования и удаления низкомолекулярных соединений в условиях вакуума. Вакуумная обработка расплава в тонком слое позволяет снизить содержание низкомолекулярных соединений в полимере до 2,8— 3,0% и повысить относительную вязкость его до 3,0—3,5. [c.112]


Производство поликапроамида (1977) -- [ c.0 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Аппараты для удаления низкомолекулярных соединений из расплава поликапроамида под вакуумом

Аппараты для удаления низкомолекулярных соединений из расплава поликапроамида путем обработки перегретым паром

Поликапроамид

Удаление низкомолекулярных соединений из поликапроамида



© 2025 chem21.info Реклама на сайте