Данные по тепловому КПД плазмотрона

Плазменные струи, генерируемые с помощью ВЧИ-плазмотронов, используются сравнительно редко. Чаще всего предпочитают проводить процесс непосредственно в зоне самого ВЧ-разряда. О возникающих при этом проблемах и некоторых путях их решения может дать представление рассмотрение довольно типичного технологического процесса получения ульт-радисперсных порошков чистых металлов в плазме ВЧ-разряда [22]. Схема ВЧИ-плазмотрона показана на рис. 1.14. Рабочие частоты этого плазмотрона — 1,7 и 3,3 Мгц. Он состоит из внутренней разрядной камеры (кварц) 2 и внешней (кварцевой) камеры 3. Индуктор 4 располагается в нижней части камер. Показанная на рис. 14 форма плазмы обусловлена взаимодействием разряда с потоками рабочего газа. Один из этих потоков — тангенциальный периферийный поток аргона — формируется в верхней части разрядной камеры и служит для стабилизации разряда в пространстве и тепловой за щиты стенок камеры. Второй поток — рабочий, газ которого содержит перерабатываемый порошок,— направляется по водоохлаждаемой трубке 1 в центр разряда. [c.14]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология