Разрядная камера, схема

Рис. 2.60. Схема работающего высокочастотного индукционного плазмотрона, снабженного секционированной водоохлаждаемой разрядной камерой, прозрачной к потоку электромагнитной энергии с индуктора 1 — поток плазмы 2 — секция камеры 3 — кварцевый корпус 4 — индуктор

Рис. 10.8. Схема разрядной камеры радиочастотного (РЧ) плазмотрона с

Рис. 7.4.4. Схема ВЧ установки с бегущей магнитной волной [9] / — водоохлаждаемая разрядная камера 2 — линия задержки 3 — манометрические преобразователи 4 — напуск газа 5 — отбор пробы газа 6 — к насосу

Рис. 10.9. Схема измерительных систем, использованных для диагностики радиочастотной (и-Г-Аг)-плазмы с применением абсорбционной и эмиссионной спектроскопии 1 — инжектор ПРе 2 — самописец 3 — радиометр 4 — генератор сигналов для сканирования зеркала 5 — самописец 6 — процессор 7— лампа 8 — ионное устройство для накачки лазера 9 — лазер 10— спектроанализатор 11 — вращающееся зеркало 12 — измеритель мощности 13 — разделитель лучей 1 — фиксированный фронт поверхности зеркала 15 — подвижное зеркало 16 — монохроматор 17 — фильтры 18 — высоковольтный источник электропитания 19 — прерыватель для сканирования поглощения 20 — индикатор 21 — детектор и усилитель изменения фазы 22 — ленточный самописец 23 — сигнал 2 — линза 25 — фиксированный фронт поверхности зеркала 26 — схематический поворот на 90° для простоты изображения Й7 — к детектору 28 — прерыватель, использованный для сканирования поглощения 29 — линза 30 — заслонка для сканирования излучения 31 — разрядная камера 32 — плазма 33 — регулируемый держатель зеркала 3 — фиксированный фронт поверхности зеркала 35 — коллиматор 36 — ввод в кожух разрядной камеры 37 — фиксированный фронт поверхности зеркала

Детальная схема основной части установки, а именно дуговой высоковольтный плазмотрон и камера пиролиза, показана на рис. 1. Из рисунка видны расположение вводов газа-теплоносителя и других внутренних деталей Б разрядной камере, обеспечивающие эффективный нагрев газа путем контакта с дугой при втягивании в воронку нижнего электрода. Показаны также способ введения углеводородов в камеру пиролиза 1 (разрез по [c.62]

На рис. 2.60 показана схема работаюш,его высокочастотного индукционного плазмотрона, снабженного такой разрядной камерой. [c.117]

Плазмотроны с самоустанавливающейся длиной дуги. Наиболее простыми по конструктивному исполнению и надежными в эксплуатации являются плазмотроны с одной разрядной камерой (однокамерная схема). В зависимости от химической активности нагреваемого газа такой плазмотрон изготавливают в трех вариантах [c.49]

Рис. 2.40. Схема лазерного плазмотрона 1 — лазерный разряд 2 — разрядная камера 3 — лазер 4 — ввод газа 5 — поток плазмы

Рис. 2.53. Схема УКВ-плазмотрона 1 — разряд 2 — разрядная камера из диэлектрического

Схема высокочастотного плазменного реактора показана на рис. 7.2. Последний включает в себя газораспределительную насадку 1, индукционный плазмотрон 2, состоящий из разрядной камеры и индуктора высокочастотного генератора 3, собственно реактор, закалочную и осадительную камеры, а также фильтр для разделения порошка и газа. Кроме того, в схему входят зонд для измерения температуры 4 и приемник продуктов синтеза 5. [c.331]

Получение карбида кремния. Известно множество попыток осуществить количественный синтез карбидов путем реакции в плазме углеводородов с дисперсным оксидным сырьем. Большинство из них оказалось неудачными с точки зрения количественного выхода продукта, поскольку реакцию проводили в плазменном факеле при удалении от зоны разряда, где температура была заметно ниже, чем в зоне разряда. Дело в том, что при генерировании (С-Н)-плазмы в самой зоне разряда происходят осаждение углерода на стенки разрядной камеры, экранирование зоны разряда от источника электропитания и распад плазмы. Однако выполнены несколько работ, в которых использовались оригинальные технические приемы, позволившие устранить этот недостаток. Одна из них — работа [17], где синтез карбида кремния осуществлен непосредственно в зоне высокочастотного индукционного разряда. Схема реактора показана на рис. 7.5 (где 1 высокочастотный генератор, 4 распределитель исходных реагентов). [c.335]

Схема экспериментальной установки показана на рис. 10.5. Источник электропитания — высокочастотный генератор 1, имеющий индуктивную связь с нагрузкой. В индуктор 2 помещена разрядная камера 3, представляющая собой полый водоохлаждаемый медный цилиндр с продольными разрезами, герметично закрытыми диэлектрическими вставками. Гексафторид урана в конденсированной фазе находится в контейнере 8, погруженном в термостат 9. Подачу газообразного иГб из контейнера 8 в разрядную камеру 3 осуществляли по обогреваемому трубопроводу через вентили 6 и расходомер 7. При необходимости в разрядную камеру 3 через вентиль 6 подавали аргон. Давление в разрядной камере измеряли оптическим манометром 5. [c.502]

Схема этого комбинированного генератора показана на рис. 10.23. Металлодиэлектрическая разрядная камера 16 помещена в индуктор 17 высокочастотного генератора 15. Верхняя часть камеры закрыта водоохлаждаемым фланцем 12 с внутренними каналами 13 для ввода UFe. Электродуговой плазмотрон постоянного тока установлен коаксиально с металлодиэлектрическим реактором над верхним фланцем 12. Электропитание этого плазмотрона осуществляется от тиристорного выпрямителя 1. Катод 6 плазмотрона постоянного тока закреплен в медном водоохлаждаемом держателе 5. Ввод UFe осуществляется через питающие трубы 8. Водоохлаждаемый анод 9 находится в магнитной катушке ii он отделен от катода промежуточным водоохлаждаемым электродом 7, отделенным изоляторами от обоих электродов. Дугу постоянного тока инициируют осциллятором [c.540]

Установленная мощность высокочастотного генератора 100 кВт, колебательная мощность — 25 -Ь 60 кВт, частота — 5,25 МГц. Температура воды, охлаждающей металлодиэлектрическую разрядную камеру 16, держатель 5 катода 6, промежуточный электрод 7, анод 8, фланец 12, питающие трубопроводы, составляла 73 °С. (Ввод и вывод воды на схеме обозначены цифрами 2 в. 3 соответственно.) Тангенциальный ввод иГб в высокочастотный разряд 18 через каналы 13 составлял 9,2- 13,6 кг/ч. Параметры электродугового плазмотрона на постоянном токе, рекомендованного для работы на иГа, следующие [c.542]

На рис. 11.28 показана более детальная схема металлодиэлектрического высокочастотного плазмотрона пилотного завода. Принципиальная часть технологического аппарата — металлодиэлектрический высокочастотный индукционный плазмотрон — находится в индукторе 6 модифицированного высокочастотного генератора ВЧИ-63/5.25. Собственно плазмотрон включает в себя секционированную (разрезную) медную водоохлаждаемую разрядную камеру 5, расположенную внутри кварцевой оболочки 4 с минимальным зазором кварцевая оболочка герметично состыковывается с верхним 3 и нижним 8 крепежными фланцами. Пад верхним крепежным фланцем 3 находится насадка 1 для подачи плазмообразующего газа — смеси Нз-Аг, ввод газов осуществляют через тангенциально расположенные каналы 2. Металлодиэлектрический плазмотрон находится внутри стальной защитной камеры 7, заполненной обычно азотом под атмосферным давлением, обеспечивающей безопасность от высокого нанряжения на индукторе, электромагнитного излучения с индуктора и потенциально возможной утечки водорода. Под плазмотроном находится вставка с кольцевым коллектором 9 ввода ПРе в поток (Н2-Аг)-плазмы, генерируемой в разрядной камере плазмотрона. С точки ввода иГб через радиальные каналы 10 начинается плазменный реактор 11, размеры которого определяли с учетом компьютерного моделирования процесса реактор охлаждается с помощью канала охлаждения 12. Дальнейший технологический маршрут процесса был показан на рис. 11.27. [c.608]

Схема разработанной нами установки [281] представлена на рис. 47. В качестве источника энергии используется высокочастотный плазменный генератор I. Плазмообразующий газ (аргон) подается в разрядную камеру, где происходит его ионизация и дальнейшее нагревание. Струя раскаленного газа из разрядной камеры 2 поступает в аппарат 3 с водоохлаждаемыми стенками. Из емкости 4 дозирующим насосом 5 пентакарбонил железа подается в смеситель 6, куда через ротаметр 7 поступает транспортирующий газ (аргон). Из смесителя паро-газовая смесь через водоохлаждаемый капилляр 8 впрыскивается в струю раскаленного газа. [c.128]

Газовая стабилизация разряда осуществляется путем тангенциальной подачи стабилизирующего газа в разрядный промежуток, при этом горячая дуга оттесняется от стенок разрядной камеры, предохраняя последнюю от чрезмерного нагрева и разрушения. Однако при вихревой стабилизации дугового разряда происходит и некоторое сжатие потока плазмы, что ведет к уменьшению обьема реакционной зоны, поэтому в некоторых случаях стабилизирующий газовый поток не закручивают, а направляют параллельно столбу дуги. Обычно стабилизирующий газ одновременно является и плазмообразующим веществом. Пример расчета дугового плазмотрона линейной схемы рассмотрен в [30]. [c.444]

Ряд критериев появляется из граничных условий. Обычно задаются температура нагреваемого газа, температуры отдельных элементов разрядной камеры, давления, скорости и расходы газа в местах их подвода, геометрические размеры. Из этих данных можно получить параметрические критерии ,/1 / /Т о р ро, и т. п. Выбор параметрических критериев, отражающих граничные условия, конкретизируется схемой плазмотрона. [c.160]

В отличие от установок в Хюльс, реакторы Техасского университета (схема устройства разрядной камеры и внешний вид представлены на рис. 6 и 7) потребляют ток обычной промышленной частоты (60 пер./сек). Питание производится от однофазных трансформаторов по 3333—4000 квт каждый, 69 кв в первичной и 15 450 в во вторичной цепи. [c.150]

Рис. 6. Схема устройства разрядной камеры с приспособлениями.

Рис. 30. Схема разрядной камеры.

Блок-схема процесса преобразо вания электрической энергии в этой установке представлена на рис. 21. Основные потери в установке приходятся на анод генераторной лампы, участок индуктор - высокочастотный разряд и разрядную камеру. [c.33]

Фиг. 32. Схема разрядной камеры с погруженным электродом (/) и подвешенным электродом (2).

Для подтверждения результатов расчета была использована установка ЛГД-12 с двумя генераторными лампами типа ГУ-ЮА, включенными параллельно. Высокочастотная часть автогенератора собрана по схеме емкостной трехточки. Разрядная камера помещена в индуктивность на участке сетка-анод. На участке сетка-катод установлен КС-фазовращатель для изменения угла сдвига фазы. Киловольтметром и амперметром измеряли мощность потребляемую от выпрямителя. Калориметрически измеряли мощность Рц, выделяющуюся на аноде генераторной лампы. [c.34]

Рис. 2.54. Схемы высокочастотных емкостных плазмотронов а) с одним заземленным электродом б) с двумя высоковольтными электродами, запитан-ными в противофазе е) со встречным вводом реагентов в один ВЧЕ-разряд г) с изогнутой разрядной камерой и одним каналом ВЧЕ-разряда д) с двумя разрядными камерами, работающими на общий реактор е) с несколькими разрядными камерами и несколькими ВЧЕ-разрядами, работающими на общий реактор 1 — канал ВЧЕ-разряда 2 — разрядная камера 3 — ВЧ-генератор 4 — ввод реагентов 5 — внешние электроды 6 — корпус ВЧЕ-

На рис. 6.12 представлены зависимости глубины формовки с использованием разрядных камер малого объема от параметров электрической цепи, а в табл. 6.24 — расг четные зависимости для определения предельного прогиба заготовки, при увеличении которого заготовка разрушается, для некоторых наиболее характерных схем формовки. [c.507]

Схема первой установки [4] дана на рис. 7.4.1. Разрядная камера представляла собой водоохлаждаемую цилиндрическую кварцевую трубу с внутренним диаметром 0,08 м и длиной 1,2 м, установленную вертикально. На разрядную камеру накладывалась медная трёхзаходная спиральная обмотка диаметром 0,12 м с шагом в несколько см, подключённая к трёхфазному ВЧ генератору, работавшему в непрерывном режиме на частоте 1,06 МГц. Обмотка возбуждала в разрядной камере наряду со слабым вращающимся магнитным полем бегущую магнитную волну. [c.339]

Была построена и более мощная установка. Результаты экспериментов на ней опубликованы в [6-11]. Схема установки показана на рис. 7.4.4. ВЧ разряд возбуждался в водоохлаждаемой кварцевой камере 1, расположенной на оси соленоида линии задержки 2, состоящей из 60 ячеек. В линии задержки использовались семивитковые катушки диаметром 0,12 м и керамические конденсаторы. Длина разрядной камеры I = [c.341]

Схема электропитания и технологическая схема такого комбинированного генератора высокочастотной индукционной (и-Е)-плазмы, включающая одновременное питание разряда в гексафториде урана от одного и того же источника электропитания через индуктор и через факельный электрод, показана на рис. 10.22. Металлодиэлектрическая разрядная камера 8 размещена коаксиально в индукторе 9 высокочастотного генератора, запитанного от силовой электросети (ввод 12). Между вводом 12 ж нагрузкой размещается управляемый контур, включающий конденсаторы С1-С3 и регулируемый конденсатор Со, который позволяет менять высокочастотное напряжение на медном водоохлаждаемом факельном электроде 1, введенном коаксиально в электродную разрядную камеру 4 с помощью изолятора 3 и через водоохлаждаемую насадку 5 — в металлодиэлектрическую разрядную камеру 8. Сырье — UFe, вспомогательный газ для предварительных операций по возбуждению разряда Аг. Ввод UFe и Аг через электрод 1 (аксиальный ввод 2) и через каналы 6 (тангенциальный ввод). [c.538]

Дуга на оси электродуговой камеры стабилизируется закрученным потоком газа. В первых двух вариантах нагреваемый газ однороден по своему составу и, как правило, химически инертен в третьем основная масса нагреваемого газа может быть химически активной, однако в область торцевого электрода, отделенную диафрагмой, подают инертный по отношению к этому электроду газ. Третий вариант наиболее интересен в прикладном отношении. Он представлен схемой на рис. 2.5. Основные элементы такого плазмотрона 1, 2 — внутренний и выходной электроды соответствено 3 — диафрагма (межэлек-тродная вставка) 4 5 — изоляторы, ограничивающие основную и дополнительную вихревые камеры С — узел подачи рабочего газа (во всех трех вариантах), — узел подачи защитного газа (в третьем варианте) 6 — соленоид для вращения электрической дуги 7. Газ при входе в разрядную камеру закручивается при проходе через кольцо с тангенциальными отверстиями. Лучшая стабилизация дуги на оси вихревой камеры достигается при скоростях течения газа, лежащих в пределах 0,3г г 0,81 (у — скорость звука в газе). [c.49]

Рис. 2.56. Принципиальные схемы ВЧИ-плазмотронов а) с одним заземленным концом индуктора б) с индуктором, запитанным по двухтактной схеме в) со встречными потоками плазмы для двух ВЧИ-разрядов, горящих в одной разрядной камере г) комбинированный (ВЧИ + ВЧЕ)-плазмотрон, запитанный по двухтактной схеме 1 — ВЧИ-разряд 2 — разрядная камера 3 — ВЧ-генератор 4 — ввод реагентов 5 — индуктор или внешние электроды 6 — корпус ВЧ-плазмотрона 7 — плазменный реактор

При реализации программы по разработке ядерного газофазного реактора с высокотемпературным газовым ТВЭЛом на UFe потребовалось экспериментально исследовать свойства стабилизированных потоков (U-F)- и (и-Г-Аг)-плазмы. О некоторых экспериментах по измерению температуры и состава этих плазм уже упоминалось выше. Целенаправленные исследования такого рода по очень широкой программе проведены в [5]. В этих экспериментах UFe инжектировали в стабилизированную аргоновую плазму радиочастотного (РЧ) разряда и обжимали поток (и-Г-Аг)-плазмы закрученным потоком аргона. Уровень мощности РЧ-разряда — до 85 кВт, давление в разрядной камере — до 12 атм (10 Па), расход UFe — до 21 г/с (75,6 кг/ч), время экспериментов — до 41,5 мин. Схема разрядной камеры в разрезе показана на рис. 10.8. Разрядная камера 1 радиочастотного плазмотрона, выполненная из плавленного кварца, находится в индукторе 3 радиочастотного генератора мощностью 1,2 МВт. Инжекцию UFe в аргоновую плазму 2 проводили через охлаждаемый зонд 7, введенный по оси разрядной камеры с одного из ее концов (и-Р-Аг)-нлазму [c.506]

При проверке указанной схемы установленная мощность источника электронитания составляла 100 кВт колебательная мощность — 25-i-60 кВт, частота — 5,25 МГц колебательная мощность, передаваемая в камеру с индуктора, составляла 20-ь55 кВт, колебательная мощность, передаваемая в разрядную камеру с электрода — 0,8 -Ь 5 кВт. Аксиальный поток UFe через электрод составлял 1,3- 2,7 кг/ч основной, тангенциальный поток UFe — 9,7 17 кг/ч временный расход [c.538]

В соответствии со схемой на рис. 10.24 металлодиэлектрическая разрядная камера 12 помещена в индуктор 10 высокочастотного генератора 9. Камера закрыта сверху водоохлаждаемым фланцем 7, в котором имеются тангенциально расположенные внутренние каналы, соединенные с трубопроводом 8 для транспорта UFe из баллона 11. Четырехугольный волновод 3 для передачи электромагнитной энергии от микроволнового генератора 5 стыкуется под прямым углом с круглым волноводом 6] в месте стыковки находится конвертор моды трансформатор электромагнитной волны Hq в волну Н . Круглый волновод 6 одновременно представляет собой микроволновый нлазмотрон, работающий на газообразном UFe, подаваемом из баллона 1 по трубопроводу 2. Диэлектрическая вставка 4 (герметизатор-развязка), выполненная из оксида алюминия, разделяет микроволновый генератор 5 и микроволновый плазмотрон. [c.543]

Генератор высокочастотной индукционной (и-Г)-нлазмы, усиленный лазером. Схема генератора высокочастотной индукционной (и-Г)-нлазмы, усиленного лазером, показана на рис. 10.25. Металл одиэлектрическая разрядная камера 8 помещена в индуктор 11 высокочастотного генератора 9 и закрыта сверху водоохлаждаемым фланцем 6, в котором имеются внутренние каналы 7 для тангенциального ввода иГб- В центре фланца 6 находится апертура 5 с оптикой, прозрачной для луча лазера и химически стойкой к фторсодержащей среде. Лазер 1 установлен на удалении от металло-диэлектрической разрядной камеры 8, его луч 3 поварачивается зеркалом 2 и фокусируется линзой 4 так, чтобы после прохождения через апертуру 5 фокус луча находился в плоскости высоковольтного витка индуктора И, способствуя оптическому или электрическому разряду с образованием кластера плазмы 10, который способен инициировать и поддерживать высокочастотный индукционный разряд 12 в иГе. [c.545]

Перекись водорода, образовавшаяся в разрядной камере, вместе Рис. 10. Схема процесса получения С Другими газами выносится в те-перекиси водорода в тихом разряде, плообменник И далее В ректификационную колонну, заполненнук> насадочными кольцами. Через сифон 8 (рис. 10) вытекает чистая 10%-ная перекись водорода. Содержание О2 в газовой смеси равно 5% (остальное Н2), количество водяного пара отвечает упругости насыщения при 60°. Расход энергии свыше 60 квт-ч на 1 кг 100% НгОг.т. е. он намного превосходит расход энергии при электрохимическом получении перекиси водорода ( 15 квт-ч кг). [c.382]

Плазменные струи, генерируемые с помощью ВЧИ-плазмотронов, используются сравнительно редко. Чаще всего предпочитают проводить процесс непосредственно в зоне самого ВЧ-разряда. О возникающих при этом проблемах и некоторых путях их решения может дать представление рассмотрение довольно типичного технологического процесса получения ульт-радисперсных порошков чистых металлов в плазме ВЧ-разряда [22]. Схема ВЧИ-плазмотрона показана на рис. 1.14. Рабочие частоты этого плазмотрона — 1,7 и 3,3 Мгц. Он состоит из внутренней разрядной камеры (кварц) 2 и внешней (кварцевой) камеры 3. Индуктор 4 располагается в нижней части камер. Показанная на рис. 14 форма плазмы обусловлена взаимодействием разряда с потоками рабочего газа. Один из этих потоков — тангенциальный периферийный поток аргона — формируется в верхней части разрядной камеры и служит для стабилизации разряда в пространстве и тепловой за щиты стенок камеры. Второй поток — рабочий, газ которого содержит перерабатываемый порошок,— направляется по водоохлаждаемой трубке 1 в центр разряда. [c.14]

Энергозатраты для операций пробивки и вырубки рассчитывают с помощью зависимостей (табл. 6.18), связывающих геометрические параметры заготовки и инструмента, механические характеристики материала заготовки (табл. 6.19), характеристики разрядной камеры и пресса с энергией, необходимой для выполнения операции. При технологических расчетах пользуются коэффициентами аппроксимации степенного закона упрочнения, значения которых для некоторых материалов приведены в табл. 6.20. При построении расчетных зависимостей разделительных операций ЭГИШ принято, что разделение материала наступает при достижении на режущей кромке инструмента критических толщинных деформаций бд р. В табл. 6.21 представлены расчетные зависимости р, полученные на основе экспериментальных данных, для некоторых схем разделительных операций. [c.498]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология