Плазмохимические реакторы низкого давления

ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ РЕАКТОРЫ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ [c.367]

В настоящее время практическое технологическое применение газоразрядная плазма низкого давления нашла прежде всего в микроэлектронике. Для этих целей разработано большое количество промышленных плазмохимических реакторов, предназначенных, [c.367]

Более аысокое давление в разряде и соответственно более низкий удельный энерговклад достигается в ВЧЕ-плазмохимических системах. Эксперименты проводили на частотах 60, 20 и 5 МГц при мощности в разряде от 1 кВт до нескольких десятков киловатт ч кварцевой камере. ВЧ-разряд возбуждали между цилиндрическими электродами из нержавеющей стали. Для удержания разрядной зоны на оси камеры рабочий газ подавали вдоль стенки через отверстие в электроде. Зона разряда имена диаметр 1 и длину 8 см. В случае реактора с возбуждением разряда электрическим полем рабочее дваление удавалось поднимать с сохранением неравновесности до 13 кПа и выше, снизить тепловую нагрузку на стенки камеры, существенно увеличить поток газа. Зависимость КПД от потока рабочего газа при давлении в реакторе 4 — 10 кПа имеет вид кривой с насыщением в области потока более 20 м х X Па/с (см. рис. 2.11). Максимум КПД (60% достигаатся при давлении 8 кПа в потоке СО2 30 м Па/с, соответствующем удельному энерговкладу 0,7—1,0 эВ/мол. Степень конверсии равна при этом 15 — 20%. [c.64]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология