Фотополимерная композиция жидкая

Так как в процессе фотополимеризации принимают участие свободные радикалы, то кислород, прерывая цепь, сильно уменьшает скорость полимеризации [22, 23]. Поэтому пленочный резист защищают от действия кислорода добавочной пленкой [3], а в жидкие фотополимерные композиции вводят воск или парафин для уменьшения растворимости кислорода [9]. [c.99]

Среди кислотостойких жидких фотополимерных композиций (табл. 19) наиболее удобна в работе холодная эмаль , названная так в связи с возможностью сушки при комнатной температуре. Она не требует окрашивания и термического закрепления, снятие маски протекает быстро и полностью. К ее недостаткам следует отнести взрыво- и пожароопасность, токсичность. Холодная эмаль значительно превосходит широко распространенный в прежние годы поливиниловый спирт по следующим параметрам высокая пленкообра-зуемость, отсутствие самодубления (в темноте), высокая разрешающая способность (300 лин/мм), большой срок хранения после нанесения (до 30 сут.), высокая кислотостойкость, высокая производительность технологического процесса благодаря исключению операций окрашивания, химического и термического дубления. [c.194]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология