Зависимость интенсивности линии от толщины покрытия (метод

Зависимость интенсивности линии от толщины покрытия (метод II) [c.166]

РЭС-единств, метод, позволяющий определить толщину d сверхтонких пленок (от 0,5 до 3,0 нм), а также сплошность покрытия (т.е. отсутствие пор). Метод основан на зависимости = /А( )ехр(- rf/Xsino), где и интенсивности линий элемента- А соотв. с пленкой и без пленки X-длина евоб. пробега фотоэлектронов в плеике. Для расчета d достаточно измерить при двух разл. значениях угла о. [c.246]

Широкое применение нашел рентгеноспектральный метод определения толщины покрытий — тонкого слоя, нанесенного на основной материал, как, например, цинка на оцинкованном железе, слоя ферропорошка на магнитофонной ленте и т. д. Метод основан на использовании градуировочных графиков, показывающих зависимость интенсивности спектральной линии от толщины покрытия. Градуировочный график строится по стандартам с известной толщиной слоя. [c.132]

Справочник химика 21