Влияние поверхностей раздела фаз на кристаллизацию стекол

В ряде статей Табата приводятся подробные данные по кристаллизации очень тонких слоев. Промышленные стекла различного состава обычно выдерживались при 600—850°С в течение 30—300 мин. после охлаждения продукты кристаллизации изучались под микроскопом. Влияние качества поверхности на кри-сталлизацию сказывалось в значительном увеличёйии кристаллизации на образцах с острыми краями и поверхностными трещинами. В любом случае кристаллы образовывались только на поверхности, а не внутри образцов. Пузырьки в стекле также играют роль поверхности раздела и вблизи них выполняются те же условия, как и на свободных поверхностях. [c.911]

Принципиальное положение зон етеклообразованйя и кристаллизации в координатах концентрация стеклообразователя — скорость охлаждения показано на рис. 4, который иллюстрирует расширение областей етеклообразованйя с повышением скорости охлаждения. Диаграмма разделена на пять полей, отличающихся по своим кристаллизационным характеристикам 1 — устойчивые стекла, кристаллизация которых медленно начинается с поверхности 2 — стекла, кристаллизующиеся в объеме под влиянием [c.13]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология