Испарители с нагревом электронным лучом

При применении ускоряющего анода и отклоняющего магнитного поля можно отодвинуть катод на значительное расстояние от распыляемого материала и вести процесс распыления в отсутствие электрического поля. При этом уменьшается конденсация паров на катоде, что повышает продолжительность его срока службы, и одновременно снижается опасность возникновения тлеющего разряда. Кроме того, возникает возможность распылять непроводящие материалы. Конструкция такого испарителя показана на рис. 3-60,г. Он предназначен для длительного испарения тугоплавких металлов, а также пермаллоя (80% Ре и 20% N1) со скоростью большей, чем 0,1 г мин. Нагрев металла производится электронным лучом 3, повернутым на угол 180° и сфокусированным поперечным магнитным полем с помощью электромагнита или постоянного магнита. Как полюсы магнита, так и электронный прожектор расположены ниже уровня жидкого металла и защищены от попадания паров. Стержень из испаряемого металла помещен в охлаждаемую водой манжету / и по мере испарения подается вверх для поддержания постоянного уровня жидкой ванны. Благодаря отсутствию над местом испарения каких-либо деталей общее количество испаренного за один прием металла может значительно превышать 100 г. [c.241]

С и не взаимодействующие с керамиками, часто испаряют из небольших тиглей (из АЬОз, ВеО и др.), нагрев которых осуществляется с помощью вольфрамовых или молибденовых спиралей путем пропускания через них тока. Иногда в качестве испарителей используются спирали из вольфрамовой проволоки, в которые помешаются кусочки испаряемого вещества. Для испарения тугоплавких металлов применяется нагрев с помощью электронной бомбардировки [6]. Нагрев металлов электронным лучом достаточно прост и обеспечивает максимальную чистоту при проведении экспериментов. Значительно реже для получения тонких пленок используется индукционный нагрев или нагрев током (для проволочных образцов). Следует отметить, что получение тонких конденсированных слоев требует большой тщательности проведения эксперимента. Особое внимание должно уделяться чистоте используемых материалов, обеспечению высокого вакуума (<10 — 10 мм рт. ст.), тщательному контролю всех параметров ведения процесса. Можно с уверенностью сказать, что иногда неконтролируемые условия (загрязнение подложки, присутствие паров масла или воды, случайные изменения режимов испарения и др.) приводят к изменению структуры пленок. Имеющиеся в различных работах несоответствия, а также невоспроизводимость экспериментальных результатов связаны, по-видимому, с неодинаковой тщательностью проведения опытов. [c.15]

Испарителям придают разнообразные конструктивные формы. Главные типы испарителей — тигельные и бестигельные с непосредственным (прямым) нагревом и нагревом по механизму теплопередачи. Прямой нагрев осуществляют пропусканием электрического тока через испаряемое тело (омический способ), возбуждением индукционных токов в испаряемом теле, воздействием электронного либо лазерного луча, воздействием плазмы. [c.38]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология