Методы получения тонких пленок

В ряде случаев вакуумное напыление является единственным методом получения тонких пленок. Этот метод значительно экономичнее других известных методов массового производства металлизированных изделий. При его использовании механическая обработка поверхностей покрытия минимальна. Способ металлизации в высоком вакууме обеспечивает покрытие пластмасс, фольги, бумаги, тканей тонким металлическим слоем и прочное сцепление его с основным материалом. В процессе металлизации изделие вращается вокруг испарителя и покрывается слоем металла. Специальные зажимные приспособления должны обеспечивать простое и надежное крепление изделий приспособления не должны затемнять металлизируемую поверхность. Высоким качеством отличаются пружинные магнитные устройства. Можно осаждать в виде тонких пленок и неметаллические материалы, напри- [c.232]

Химический метод получения тонких пленок состоит в нанесении спиртового раствора ортокремниевой или ортотитановой кислоты на стеклянную подложку с последующим подогреванием пленки до температуры порядка 300—400° С. Для этого капля раствора пипеткой наносится на деталь, вращающуюся со скоростью 600—3500 об мин. Под влиянием центробежной силы капля равномерно растекается по поверхности подложки. После гидролиза и испарения растворителя и воды на поверхности подложки [c.131]

Другой метод получения тонких пленок в вакууме — это метод катодного распыления. Полоску металла подвергают бомбардировке положительными ионами в газовом разряде, что вызывает распыление [c.349]

Химические методы осаждения пленок широко освещены в литературе в некоторых работах содержатся подробные сравнительные сведения по всем существующим химическим и физическим технологическим способам осаждения тонких пленок [1—3]. Отметим, что физические методы получения тонких пленок детально рассмотрены в других разделах настоящей книги. Целью настоящей главы является обзор различных химических методов. известных в настоящее время. [c.462]

После рассмотрения различных химических методов получения тонких пленок можно составить обзорную таблицу характеристик обсужденных методов. Их преимущества и недостатки перечислены в табл. 6. Для сравнения в таблицу включены также методы вакуумного испарения и ионного распыления. Сама по себе приведенная таблица еще не дает возможности выбрать оптимальный способ изготовления тонких пленок. Выбор способа зависит от типа требуемой пленки, от ограничений в выборе подложек я часто, особенно в случае многократного осаждения, от общей совместимости различных процессов, протекающих при применении этого метода. В табл. 7 подведен итог по вопросу применимости обсужденных методов в микроэлектронике. Заштрихованные клетки таблицы обозначают принципиальную возможность использования метода, клетки, заштрихованные крест-накрест — широкое практическое применение. Методам вакуумного [c.488]

Напыление в вакууме за последние 10 лет стало основным технологическим методом получения тонких пленок. [c.3]

В т. 1 справочника читатель найдет исчерпывающие справочные данные по различным методам получения тонких пленок (техника высокого вакуума, физический механизм распыления материалов под действием ионной бомбардировки, методы получения пленок путем ионного распыления) технологические разъемы, а также параметры необходимой аппаратуры. [c.4]

МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК [c.17]

В первом случае в качестве основы, образующей блок, используется пластина изоляционного материала, на который наносят проводящие, резистивные, полупроводниковые, изоляционные и магнитные пленки, выполняющие роль радиодеталей. Основу технологии составляют методы получения тонких пленок вакуумное осаждение, химическое осаждение и т. д. [c.148]

Публикуемые материалы представляют интерес для работников, занимающихся изучением и применением плазменных методов получения тонких пленок. [c.2]

Первой монографией, посвященной методам получения тонких пленок и изучению их свойств, явилась опубликованная в СССР в 1946 г. книга И. В. Гребенщикова, А. Г. Власова, Б. С. Непо-рента и Н. В. Суйковской Просветление оптики [1]. В ней изложены основные принципы уменьшения отражения света от поверхностей оптических стеклянных деталей и, соответственно, увеличения светопропускания оптических приборов описаны методы получения тонких пленок, предложенные и разработанные впервые в Советском Союзе, а также методы, используемые за границей . [c.3]

Известно, что многие химические соединения склонны к гидролизу не только в водных растворах, но и при взаимодействии с водяными парами. Метод получения тонких пленок из газовой фазы основан на химических реакциях между легколетучими гидролизующимися соединениями. [c.33]

Описан газоструйный метод получения тонких пленок двуокиси олова разложением алкоксисоединепий олова па нагретой поверхности стекла и других материалов [1311. [c.359]

Наибольшие достижения в получении УНТ получены с помощью каталитического разложения углеводородов на поверхности металлического катализатора. Этот метод подобен VD методу получения тонких пленок. Катализатор представляет из себя, например, высокодисперсный порощок металлического железа при Т = 700° С, который помещен в тигель внутри трубки, через которую пропускается смесь, например, С2Н2 N2 в соотношении 1 10. В результате на поверхности катализатора образуются различного рода УНТ и металлические нанокластеры внутри многослойной фафитовой оболочки. Однако наиболее высокая степень однородности УНТ получается при использовании пористой подложки с высокой степенью однородности пор, которые заполнены нанокластерами металлического катализатора. В этом случае диаметр УНТ будет [c.372]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология