Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Нитевидных кристаллов рост на катоде

    На рис. 124 схематически изображена форма нитевидного кристалла серебра, получающаяся при изменениях силы тока, обусловленных изменением э. д. с. Сначала, при силе тока 6,65 10- а, растет очень тонкая нить (участок ад) при некоторой плотности тока. Повышение силы тока до 4 10 а сопровождается, конечно, сдвигом потенциала в отрицательную сторону, т. е. увеличением поляризации катода. Это нарушает равенство скоростей адсорбции и роста боковой поверхности, так как плотность тока возрастает. Размер растущей грани увеличивается, нить становится толще (участок Ьс). Но по мере [c.511]


    На рис. 124 схематически изображена форма нитевидного кристалла серебра, получающаяся при изменениях силы тока, обусловленных изменением э. д. с. Сначала, при силе тока 6,65- 10 а, растет очень тонкая нить (участок аЬ) при некоторой плотности тока. Повышение силы тока до 4-10 а сопровождается, конечно, сдвигом потенциала в отрицательную сторону, т. е. увеличением поляризации катода. Это нарушает равенство скоростей адсорбции и роста боковой поверхности, так как плотность тока возрастает. Размер растущей грани увеличивается, нить становится толще (участок Ьс). Но по мере утолщения нити плотность тока убывает, соответственно убывает поляризация и потенциал становится более положительным. Затем начинается снова нормальный рост нити, но большего сечения, чем раньше (участок d). При этом плотность тока и потенциал возвращаются к своему исходному значению. Следующее увеличение силы тока доЗ,6 10 а снова приводит к подобным же изменениям (участки de и ef). [c.511]

    При малых концентрациях ионов в р-ре массоперенос к растущей пов-сти ифает главенствующую роль в определении морфологии роста кристаллов при Э. Высокие плотности тока обеспечивают перенапряжение, достаточное для роста боковых фаней нитевидного кристалла, на катоде возникают децдриты. Адсорбция и соосаждение примесей тормозят линейный рост кристаллов, вызывают искажение кристаллич. решетки и понижают устойчивость фронта роста граней, способствуют образованию на электроде соматоидных структур. При больших концентрациях соосаждающихся примесей (Р, В, S и др.) кристаллич. решетка оказывается предельно нарушенной, возникают системы аморфного строения - металлич. стема. [c.431]


Смотреть страницы где упоминается термин Нитевидных кристаллов рост на катоде: [c.232]   
Теоретическая электрохимия (1959) -- [ c.511 ]

Теоретическая электрохимия Издание 3 (1970) -- [ c.510 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Катод

Рост кристаллитов

Рост кристаллов

Фаг нитевидный



© 2025 chem21.info Реклама на сайте