Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Насос электродуговой геттерный

    Испарение геттера в электродуговых геттерных насосах происходит с поверхности титанового катода за счет высокой концентрации энергии в катодном пятне электрической дуги постоянного тока. Плотность тока в катодном пятне достигает 10 ° — 10" А/м . [c.140]

Рис. 7.36. Электродуговой геттерный насос. Рис. 7.36. Электродуговой геттерный насос.

    Для откачки инертных газов к нижнему фланцу насоса через водоохлаждаемую ловушку 10 присоединяется дополнительный паромасляный диффузионный насос, быстрота действия которого должна составлять 2—5% быстроты действия электродугового геттерного насоса. [c.142]

    Электродуговые геттерные насосы используют простые источники питания, снабжены большим количеством геттерного материала и просты по устройству. [c.142]

    Высоковакуумные насосы работают в области давлений 10 —10 Па, сверхвысоковакуумные—в области давлений ниже 10 Па. К ним относятся молекулярные диффузионные паромасляные, диффузионные парортутные, турбомолекулярные, сорбционные (испарительные геттерные, электродуговые гет-терные, ионно-геттерные, магнитные электроразрядные) и криогенные насосы. Таким образом, для получения высокого и сверхвысокого вакуума могут использоваться насосы одинакового типа. [c.88]

    Быстрота действия геттерных электродуговых насосов может достигать 10 — 10 л/с. Предельное остаточное давление насоса составляет 10" Па при откачке инертных газов дополнительным насосом и (5—2)Х Па без такой откачки дополнительным насосом. [c.142]

    Для сверхвысоковакуумной откачки сильноточных протонных ускорителей разработаны испарительные насосы на основе плазменных электродуговых источников геттерных пленок [2]. Они имеют быстроту действия до 200 м /с. [c.57]

    Примером конструктивных решений, где этот недостаток устранен, служат электродуговые насосы серии НЭД. В качестве анодного электрода, являющегося одновременно поверхностью осаждения геттерных пленок, в этих насосах используется цилиндрическая тонкостенная оболочка, устанавливаемая по оси корпуса. Защита нерабочих участков насоса от эапыления атомами геттера осуществляется шевронной ловушкой. В насосах пртменен унифицированный испаритель с магнитной ста иэацией, критический ток которого составляет 60 А. [c.162]

    Этот недостаток устранен в ИГН на базе плазменных испарителей. Модификации таких насосов, построенные на комбинированном использовании дугового разряда в парах геттера и пеннинговского или магнетронного разрядов в остаточном газе, рассмотрены в 5.4. Здесь ограничимся описанием ИГН с электродуговым источником геттерных пленок, основанного на эффекте плазменной сорбционной откачки. [c.169]


Основы вакуумной техники Издание 2 (1981) -- [ c.140 ]




ПОИСК







© 2025 chem21.info Реклама на сайте