Фотополимерная композиция

Так как в процессе фотополимеризации принимают участие свободные радикалы, то кислород, прерывая цепь, сильно уменьшает скорость полимеризации [22, 23]. Поэтому пленочный резист защищают от действия кислорода добавочной пленкой [3], а в жидкие фотополимерные композиции вводят воск или парафин для уменьшения растворимости кислорода [9]. [c.99]

Среди кислотостойких жидких фотополимерных композиций (табл. 19) наиболее удобна в работе холодная эмаль , названная так в связи с возможностью сушки при комнатной температуре. Она не требует окрашивания и термического закрепления, снятие маски протекает быстро и полностью. К ее недостаткам следует отнести взрыво- и пожароопасность, токсичность. Холодная эмаль значительно превосходит широко распространенный в прежние годы поливиниловый спирт по следующим параметрам высокая пленкообра-зуемость, отсутствие самодубления (в темноте), высокая разрешающая способность (300 лин/мм), большой срок хранения после нанесения (до 30 сут.), высокая кислотостойкость, высокая производительность технологического процесса благодаря исключению операций окрашивания, химического и термического дубления. [c.194]

Резисты типа П, проявляемые слабой водной щелочью (примерно 0,5%-ной), содержат карбоксильные группы в количестве, минимально необходимом для придания гидрофобному слою растворимости. По легкости очистки пробельных элементов щелочные проявляющие растворы располагаются в ряд МазР04 > МагСОз > > N328103. Слои такого типа с добавлением 15—30% поливинилового спирта могут применяться и в полиграфии [14] для создания фотополимерных форм толщиной 250—800 мкм. Эти композиции могут быть светочувствительны за счет ненасыщенных групп, а также сенсибилизироваться. [c.98]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология