Лития дициклогексиламид

В последние годы границы применимости реакции металлирования были расширены введением в практику органического синтеза сильных оснований, обладающих слабонуклеофильными свойствами. Таковыми оказались пространственно затрудненные амиды лития. Наибольшее распространение получили диизопропиламид лития (ДИПАЛ), дициклогексиламид лития, ди(триметил-силил)амид лития и др. Получают сверхсильные основания чаще всего действием бутиллития на соответствующий амин и используют их без выделения (1п 81Ш) [c.231]

Удивительное постоянство этого отношения (33 67) наблюдается для нуклеофилов с различными пространственными характеристиками, таких как н-бутиллитий и трег-бутиллитий (табл. 9) [17]. Только для диизопропил-или дициклогексиламидов лития объемистые группы вызывают отклонение отношения констант в ожидаемом направлении. Таким образом, пространственные факторы, по-видимому, не существенны для большинства присоединений. [c.220]

В пределах серии диалкиламидов лития относительная активность в реакции металлирования падает в следующем порядке пирролидид лития 44 пиперидид лития 38 диэтиламид лития 4 диизобутиламид лития 3 дициклогексиламид лития 1. Можно видеть, что стерические препятствия очень мало сказываются на скорости реакции. [c.149]

Справочник химика 21